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化学微蚀工艺对铜面表观粗糙度的影响研究
被引量:
5
1
作者
叶非华
刘攀
常润川
《印制电路信息》
2013年第S1期189-195,共7页
随着电子产品朝轻小薄方向发展,PCB产品布线密度也在不断增加,这也给线路制作带来更大的挑战。化学微蚀作为线路制作的关键因素,研究其对铜面粗糙度的影响显得越来越重要。本文研究了硫酸-过硫酸钠、中粗化和超粗化三种化学前处理体系...
随着电子产品朝轻小薄方向发展,PCB产品布线密度也在不断增加,这也给线路制作带来更大的挑战。化学微蚀作为线路制作的关键因素,研究其对铜面粗糙度的影响显得越来越重要。本文研究了硫酸-过硫酸钠、中粗化和超粗化三种化学前处理体系对铜面表观粗糙度的影响,利用三维非接触式光学轮廓仪测量微蚀后铜面的粗糙度,得到每种药水微蚀量和铜面粗糙度的变化规律。结果表明:在药水组成一定的条件下,铜面经硫酸-过硫酸钠处理后的粗糙度与微蚀量变化相关性不大;中粗化处理的铜面粗糙度随着微蚀量的增大呈现出先增大、后减小、再增大的趋势;超粗化处理的铜面粗糙度随着微蚀量的增大呈现出先增大、后变平缓的趋势。
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关键词
化学微蚀
前处理
微蚀量
表观粗糙度
光学轮廓测量仪
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职称材料
题名
化学微蚀工艺对铜面表观粗糙度的影响研究
被引量:
5
1
作者
叶非华
刘攀
常润川
机构
广州兴森快捷电路科技有限公司
出处
《印制电路信息》
2013年第S1期189-195,共7页
文摘
随着电子产品朝轻小薄方向发展,PCB产品布线密度也在不断增加,这也给线路制作带来更大的挑战。化学微蚀作为线路制作的关键因素,研究其对铜面粗糙度的影响显得越来越重要。本文研究了硫酸-过硫酸钠、中粗化和超粗化三种化学前处理体系对铜面表观粗糙度的影响,利用三维非接触式光学轮廓仪测量微蚀后铜面的粗糙度,得到每种药水微蚀量和铜面粗糙度的变化规律。结果表明:在药水组成一定的条件下,铜面经硫酸-过硫酸钠处理后的粗糙度与微蚀量变化相关性不大;中粗化处理的铜面粗糙度随着微蚀量的增大呈现出先增大、后减小、再增大的趋势;超粗化处理的铜面粗糙度随着微蚀量的增大呈现出先增大、后变平缓的趋势。
关键词
化学微蚀
前处理
微蚀量
表观粗糙度
光学轮廓测量仪
Keywords
Chemical Microetching
Pretreatment
Microetching Amount
Surface Roughness
Optical Profiler
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
化学微蚀工艺对铜面表观粗糙度的影响研究
叶非华
刘攀
常润川
《印制电路信息》
2013
5
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