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面向光背板应用的低损耗单模聚合物光波导技术研究
1
作者
庄语迪
石莹
+2 位作者
汤宁峰
魏晓强
何祖源
《半导体光电》
CAS
北大核心
2022年第6期1142-1147,共6页
系统地开展了基于光刻及湿法显影工艺制备的聚合物光波导散射损耗的理论及实验研究。研究了包括粗糙度、波导尺寸和工作波长等主要参数对散射损耗的影响,采用激光共聚焦显微镜测量了光波导侧壁及上下表面的粗糙度。实验结果表明,波导侧...
系统地开展了基于光刻及湿法显影工艺制备的聚合物光波导散射损耗的理论及实验研究。研究了包括粗糙度、波导尺寸和工作波长等主要参数对散射损耗的影响,采用激光共聚焦显微镜测量了光波导侧壁及上下表面的粗糙度。实验结果表明,波导侧壁的平均粗糙度约为60 nm,是上下表面粗糙度的3倍。因此,散射损耗主要由侧壁粗糙引起,其大小是上下表面粗糙引入散射损耗的9倍。基于上述理论及实验结果,通过优化波导设计,制备了工作于1 310 nm波长、平均损耗为0.35 dB/cm的低损耗单模聚合物光波导,其作为高速高密度光背板的关键传输介质具有良好的应用前景。
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关键词
光互连
聚合物波导
散射损耗
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职称材料
题名
面向光背板应用的低损耗单模聚合物光波导技术研究
1
作者
庄语迪
石莹
汤宁峰
魏晓强
何祖源
机构
上海交通大学区域光纤通信网与新型光通信系统国家重点实验室
中兴通讯股份有限公司
移动网络和移动多媒体技术国家重点实验室
出处
《半导体光电》
CAS
北大核心
2022年第6期1142-1147,共6页
基金
国家重点研发计划项目(2019YFB1802900)
中兴通讯研究基金。
文摘
系统地开展了基于光刻及湿法显影工艺制备的聚合物光波导散射损耗的理论及实验研究。研究了包括粗糙度、波导尺寸和工作波长等主要参数对散射损耗的影响,采用激光共聚焦显微镜测量了光波导侧壁及上下表面的粗糙度。实验结果表明,波导侧壁的平均粗糙度约为60 nm,是上下表面粗糙度的3倍。因此,散射损耗主要由侧壁粗糙引起,其大小是上下表面粗糙引入散射损耗的9倍。基于上述理论及实验结果,通过优化波导设计,制备了工作于1 310 nm波长、平均损耗为0.35 dB/cm的低损耗单模聚合物光波导,其作为高速高密度光背板的关键传输介质具有良好的应用前景。
关键词
光互连
聚合物波导
散射损耗
Keywords
optical interconnect
polymer waveguide
scattering loss
分类号
TN252 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
面向光背板应用的低损耗单模聚合物光波导技术研究
庄语迪
石莹
汤宁峰
魏晓强
何祖源
《半导体光电》
CAS
北大核心
2022
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