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汽车电子标识在危化品运输车辆管理中的应用 被引量:2
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作者 胡家彬 顾席光 +2 位作者 王军华 黄金 府宇 《警察技术》 2019年第2期81-84,共4页
分析当前危化品运输车辆管控技术现状及存在的问题,结合汽车电子标识技术的特点,提出汽车电子标识在危化品运输车辆运行监管中的应用方案,提升涉车管理部门在危化品运输车辆识别、跟踪、预警及布控等方面的工作效率。
关键词 交通工程与交通管理 车辆通行证 汽车电子标识 危化品运输车辆
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用于n/γ混合场测量的涂硼电离室研制
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作者 朱立 魏志勇 +5 位作者 陈国云 雷升杰 方美华 贾文宝 张紫霞 府宇 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期1624-1628,共5页
研制了一种能同时测量混合场中γ和中子注量率的涂硼电离室,并实验测试了其性能。涂硼电离室由两个大小和结构一致的腔室组成:1个仅对γ灵敏,另1个对γ与中子均灵敏。用强度为2.7×107 s-1的Am-Be源测得电离室的中子灵敏度达9.2... 研制了一种能同时测量混合场中γ和中子注量率的涂硼电离室,并实验测试了其性能。涂硼电离室由两个大小和结构一致的腔室组成:1个仅对γ灵敏,另1个对γ与中子均灵敏。用强度为2.7×107 s-1的Am-Be源测得电离室的中子灵敏度达9.2×10-16 A/(cm-2·s-1),在剂量率为5.24μGy/h的137 Csγ场中,电离室的γ灵敏度达7.36×10-16 A/(MeV·cm-2·s-1)。涂硼电离室I-V曲线坪长为600V,坪斜小于4%/100V,在工作电压为-400V时,其γ补偿修正系数<5%,可用于核设施周围的混合场监测。 展开更多
关键词 涂硼电离室 中子灵敏度 Ⅰ-Ⅴ曲线 混合场
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制药用水微生物限度样品取样操作中消毒步骤的探讨
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作者 刘晓婵 印萍 府宇 《流程工业》 2024年第4期51-55,共5页
本文对制药用水微生物监测项目的取样过程中使用消毒剂进行消毒操作的必要性进行了探讨。采取的方法是选取1个实验室纯化水系统的6个取水点,14天周期内进行10天微生物限度样品的取样测试,每个取样点微生物限度消毒与不消毒取样操作各取... 本文对制药用水微生物监测项目的取样过程中使用消毒剂进行消毒操作的必要性进行了探讨。采取的方法是选取1个实验室纯化水系统的6个取水点,14天周期内进行10天微生物限度样品的取样测试,每个取样点微生物限度消毒与不消毒取样操作各取1份样品,按照《中国药典》2020年版二部纯化水进行微生物限度测试。测试结论是试验中所有检测水点两种取样方式样品的微生物限度检测结果均符合限值标准的要求,检测结果没有显著差异,结果一致。说明取样人员在取样标准操作规程下规范取样,制药用水取样过程中微生物限度样品取样不消毒操作是可以接受的,能够客观真实地反映制药水系统取样点的微生物指标。 展开更多
关键词 制药用水 微生物限度 取样 消毒操作
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Micro-track structure analysis for 100 MeV Si ions in CR-39 by using atomic force microscopy 被引量:1
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作者 方美华 魏志勇 +5 位作者 张紫霞 朱立 府宇 石苗 黎光武 郭刚 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第11期436-439,共4页
To analyze the micro-track structure of heavy ions in a polymer material, parameters including bulk etch rate, track etch rate, etch rate ratio, and track core size were measured. The pieces of CR-39 were exposed to 1... To analyze the micro-track structure of heavy ions in a polymer material, parameters including bulk etch rate, track etch rate, etch rate ratio, and track core size were measured. The pieces of CR-39 were exposed to 100 MeV Si ions with normal incidence and were etched in 6.25N NaOH solution at 70 ℃. Bulk etch rate was read out by a profilemeter after several hours of etching. The other parameters were obtained by using an atomic force microscope (AFM) after a short time of etching. We have measured the second etch pits and minute etch pits to obtain the track growth curve and three dimension track structures to track the core size and etch rate measurements. The local dose of the track core was calculated by the δ-ray theory. In our study, we figure out that the bulk etch rate Vb=(1.58±0.022) μm/h, the track etch rate Vt=(2.90±0.529) μ/h, the etch rate ratio V=1.84±0.031, and the track core radii r≈4.65 nm. In the meantime, we find that the micro-track development violates the traditional track-growth model. For this reason, a scenario is carried out to provide an explanation. 展开更多
关键词 micro-track structure bulk etch rate track etch rate track core size
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