ZIF-8/g-C_(3)N_(4)复合材料光催化深度氧化NO性能的研究

采用热聚合法和原位沉积法分别制备g-C_(3)N_(4)、ZIF-8及不同质量比的ZIF-8/g-C_(3)N_(4)复合光催化材料,通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)等表征手段对其结构性质进行表征。表征结果表明,合成的ZIF-8/g-C_(3)N_(4)复合材料没有破坏ZIF-8与g-C_(3)N_(4)原始的晶体结构与形貌,且ZIF-8与g-C_(3)N_(4)形成了异质结,ZIF-8/g-C_(3)N_(4)复合材料的BET比表面积比g-C_(3)N_(4)提高了30多倍。光催化氧化去除NO结果表明,12.5%-ZIF-8/g-C_(3)N_(4)的NO氧化去除效率最佳,且不生成有毒中间产物NO_(2),具有最优异的光催化活性,对于NO的氧化去除率可达55.1%。机理研究表明,基于g-C_(3)N_(4)的异质结构不仅抑制了光生载流子的复合,而且由于g-C_(3)N_(4)与ZIF-8之间的协同作用,促进了可见光的吸收以及反应物分子NO的吸附,从而提高了复合材料对NO的光催化氧化性能。