低温等离子体在多晶硅行业的应用研究

在化学合成、材料制备等技术领域,低温等离子体因其独特的化学活性而被广泛地研究及应用。本文从低温等离子体发生机理出发,介绍了几种不同的等离子体发生器放电模式,结合多晶硅生产中氯硅烷制备工序,采用介质阻挡放电(DBD)附加催化剂,结果表明:在频率100kHz、5kV电压激励下,H2/STC摩尔比10∶1,反应气以5.0L/min流经反应器,STC一次转换效率达到5.32%,在此基础上,提出低温等离子体在多晶硅行业的应用前景。