直径为2mm电磁型微电动机的研究

运用微细加工方法研制新颖直径为２ｍｍ，速度可调的电磁型微电动机，并讨论了电磁型微电动机的驱动原理和制备方法。

CoCu合金颗粒膜的室温磁电阻效应

利用射频磁控溅射方法制备ＣｏＣｕ合金不同成分的亚稳态薄膜。研究了ＣｏＣｕ合金颗粒膜的磁电阻随真空退火温度、外磁场以及组元成分而变化的规律。经真空退火后，ＣｏＣｕ颗粒膜中析出的Ｃｏ颗粒呈面心立方结构。这种在非磁性Ｃｕ的基体上和具有磁性Ｃｏ偏聚态的纳米级颗粒膜具有巨磁阻（ＧＭＲ）效应。ＣｏＣｕ颗粒膜的ＧＭＲ效应及磁性能均取决于Ｃｏ颗粒的尺寸及数量。

Nd-Fe-B永磁体化学镀镍抗腐蚀性能的研究

利用化学镀镍方法成功地实现了对稀土永磁体Nd-Fe-B的抗腐蚀性保护。选择适当的预处理工艺与专用化学镀镍槽液相结合,可获得抗腐蚀性能良好的镍保护层,化学镀双层镍的抗腐蚀性能尤其突出。

微型直流无刷电动机及其控制电路的研制

本文介绍了直径为２ｍｍ速度可调的微型直流无刷电动机。其主要特点为：１）采用层平面型三相绕组线圈；２）具有多极薄膜磁性转子；３）转速从５０转／分到１０００转／分连续可调；４）可识别磁极位置的微型薄膜变磁阻传感器。

新型规整填料——脉冲填料的流体力学性能研究

本文研究了新型规整填料——脉冲填料(impulse packing)的流体力学性能。研究结果表明,该填料比一般乱堆填料性能为好,它的压降较小,处理量较大。

镍钛合金形状记忆薄膜的化学刻蚀

镍钛合金形状记忆薄膜的图形化技术曾是其实用化的主要障碍之一，现在，一种工作性能优越的化学刻蚀液可以实现薄膜的高精度图形化，该刻蚀液常温工作，性能稳定，刻蚀速率在１～５ 微米／分之间均可得到满意的刻蚀线条。常规制作的光刻胶掩模在该刻蚀液中非常稳定。该刻蚀液用于溅射态的形状记忆合金薄膜可得到与掩模图形完全一致的刻蚀结果，刻蚀线条光滑平直，刻蚀系数大于 １５。当用于热处理以后的薄膜时，刻蚀面有一定程度的粗糙化，只能用于刻蚀相对较粗的线条，这是热处理后薄膜中晶粒与晶界刻蚀速率不同所致。用该刻蚀液图形化的形状记忆合金薄膜驱动机构已成功用于微泵制造，所制作的微泵流量达到 ２００ 微升／分钟以上。

微马达转子电镀导磁层的研究

本文推荐一种镀液，用于制作电磁型微电机转子坡莫合金导磁层，研究了该镀液的组成和工作条件对镀层成份和内应力的影响，表明该镀液具有可供选用的电流密度范围宽，允许较高Ｆｅ２－浓度和镀层内应力低等优点。

非晶多晶薄膜结构快速能量过滤径向分布函数分析(英文)

介绍研究薄膜结构的新方法—能量过滤电子衍射法。该方法借助透射电镜样品后扫描，使薄膜的选区电子衍射花样顺序地扫过电子能量损失谱仪入口光阑，检测弹性散射电子强度与散射矢量关系，然后由径向分布函数理论，导出薄膜材料的最近邻原子间距和配位数等与结构有关的信息。通过多晶金薄膜和非晶钛铝薄膜的测试，获得满意结果。

离子束溅射Ti和Ni薄膜的初生过程

用ＡＥＳ方法原位研究了离子束溅射Ｔｉ和Ｎｉ元素成膜的初生模式，它们在单晶Ｓｉ上以层状ＦＭ模式生长，其成膜速率与其溅射产额有关。

富Al的Al-Ti系的机械合金化

本文研究了富Ａｌ的Ａｌ－Ｔｉ混合粉末在球磨过程中的结构演变过程。研究结果表明球磨机的类型即球磨输入能量对混合粉末的结构变化有很大影响，球磨输入能量决定最终球磨态粉末的畸变程度和晶粒大小。输入能量高的球磨方式能导致Ｔｉ完全地过饱和固溶于Ａｌ中，甚至有部分非晶相和ＬＩ_２有序相的形成。中等输入能量只能形成过饱和固溶体，而输入能量较低就不能使Ａｌ－Ｔｉ完全过饱和固溶，更不能形成非晶相。利用ＧＮ－２型球磨机制备的机械合金化Ａｌ－Ｔｉ粉末的畸变明显高于另外两种球磨机制备的粉末，旦晶粒最细。高的畸变和细的晶粒可能是合金部分非晶化的原因之一。

Ni_(65)Co_(35)薄膜各向异性磁电阻性能的研究

选用Ni_(65)Co_(35)合金靶材，利用射频磁控溅射的方法成膜，采用四探针法测量磁电阻率，分别研究了溅射工艺参数（工作气压、偏压、功率、基片温度等）对薄膜磁电阻性能的影响，并对影响机理作了理论上的分析；另外还对Ni_(65)Co_(35)薄膜的热处理动力学进行了研究，求取了激活能。研究结果表明，溅射工艺参数对Ni_(65)Co_(35)薄膜的磁电阻率有着较大的影响、适当的溅射参数能有效地提高磁电阻率；Ni_(65)Co_(35)薄膜退火处理后磁电阻率有明显上升，对应的激活能为1．15eV。

用金刚石薄膜制造X射线掩模版

用金刚石薄膜作为支撑层，金作为吸收体；同时，采用Ｎｉ合金过渡层来解决金刚石与金之间结合力小，热匹配性能差等问题。制作的掩模版具有较好的反差效果。同时，还具有工艺简单，成品率高等特点。

CoAg颗粒膜巨磁阻效应的TEM研究

由于巨磁阻材料具有极高的磁阻变化率和许多其他的优良物理性能，其在磁传感器及磁阻式薄膜磁头方面具有潜在的应用价值。颗粒膜不仅具有优良的磁性能，且发现其具有各向同性巨磁阻效应，因此，巨磁阻颗粒膜材料成为近来研究的热点［１，２］。实验方法本文采用ＳＰＦ－３...

微机电系统中的材料和加工

本文主要讨论微机电系统中的常用材料和加工技术。具体分析了Si、GaAs、SiC、金刚石和石英等材料的性能及其在微机电系统中的应用 ,并论述了材料的各向同性和各向异性刻蚀加工技术以及材料间的键合工艺。

金刚石薄膜的反应离子刻蚀

反应离子刻蚀是金刚石薄膜图形化的一种有效方法。研究了用O2 及与Ar的混合气体进行金刚石薄膜图形化刻蚀的主要工艺参数 (射频功率、工作气压、气体流量、反应气体成分与比例等 )对刻蚀速率和刻蚀界面形貌的影响 ,兼顾刻蚀速率和刻蚀面平滑程度等关键因素 ,建立了金刚石薄膜刻蚀的优化工艺参数 ,达到了较满意的图形效果。

氧化—吸附法治理硫醇恶臭气体

聚硫生产过程中逸出的硫醇恶臭气体,采用双氧水喷淋氧化和活性炭吸附两级处理后,下风侧最大着地浓度处基本无味或偶稍可感觉气味。喷淋氧化液循环使用,达一定浓度后更新;活性炭使用一年以上,更换下深埋。

金属间化合物Ni_3Al中的硼晶界偏聚特性的AES研究

本文应用俄歇能谱仪研究了不同化学计量比Ｎｉ３Ａｌ金属间化合物硼在晶界偏聚的特性．研究结果表明：硼在Ｎｉ３Ａｌ的各个晶界偏聚存在着不均匀性，硼在晶界的偏聚范围只有几个原子层。