利用SRIM软件模拟Ar+以不同能量和角度溅射铜靶,根据计算结果得出溅射产额随入射离子能量和角度的变化规律:溅射产额在低能区(0.1-10 ke V)随入射离子能量的增加而增大,在高能区(10-100 ke V)随入射离子能量的增加变化不大且逐渐减小;...利用SRIM软件模拟Ar+以不同能量和角度溅射铜靶,根据计算结果得出溅射产额随入射离子能量和角度的变化规律:溅射产额在低能区(0.1-10 ke V)随入射离子能量的增加而增大,在高能区(10-100 ke V)随入射离子能量的增加变化不大且逐渐减小;溅射产额随着离子入射角的增加逐渐增大,且在60°-80°之间有一极大值,而当入射角再变大时溅射产额急剧下降;入射角在0°-60°范围内,相对溅射产额与入射角余弦值近似成反比。溅射产额的变化规律可利用级联碰撞理论做出合理解释。展开更多
文摘利用SRIM软件模拟Ar+以不同能量和角度溅射铜靶,根据计算结果得出溅射产额随入射离子能量和角度的变化规律:溅射产额在低能区(0.1-10 ke V)随入射离子能量的增加而增大,在高能区(10-100 ke V)随入射离子能量的增加变化不大且逐渐减小;溅射产额随着离子入射角的增加逐渐增大,且在60°-80°之间有一极大值,而当入射角再变大时溅射产额急剧下降;入射角在0°-60°范围内,相对溅射产额与入射角余弦值近似成反比。溅射产额的变化规律可利用级联碰撞理论做出合理解释。