pH值和热处理对氧化亚铜薄膜结构和光学性能的影响

在三电极电化学池中,以ITO透明导电玻璃作为工作电极,在硫酸铜-乳酸钠体系中采用恒电位电化学沉积法制备Cu2O薄膜,并讨论pH值和热处理对Cu2O薄膜结构和光学性能的影响。利用X射线衍射仪(XRD),场发射扫描电镜(FESEM)和紫外-可见光光谱仪(UV-vis)表征Cu2O薄膜物相结构、表面形貌以及光学性能。结果表明:沉积溶液的pH值和热处理均可提高Cu2O薄膜结晶性能,随着pH值的增加Cu2O薄膜的禁带宽度降低,热处理对Cu2O薄膜的禁带宽度影响不大。

电化学沉积法制备Gd_2O_3∶Eu^(3+)薄膜的发光特性研究

采用电化学沉积法制备Gd2O3∶Eu3+荧光薄膜,通过调节Eu3+离子掺杂浓度来探究具有最佳发光效果的薄膜,利用XRD、SEM,PL光谱和EDS测试分析该种材料的物相构成及表面形貌。结果显示:电化学沉积法制备的薄膜结晶效果好,具有立方晶体结构,掺杂离子Eu3+离子均匀地分布在薄膜中;制备出的荧光薄膜有良好的发光强度,当Gd(NO3)3.6H2O与Eu(NO3)3.6H2O的体积比为10∶1时发光强度最大,但当Eu3+离子掺杂浓度过大时,会出现荧光淬灭现象,电化学沉积法可以制备出具有良好发光性能的荧光薄膜。

镍表面负载CoMn_2O_4的电化学性能研究

采用水热法在泡沫镍表面沉积CoMn2O4,设计一种无粘结剂型电极。利用扫描电镜(SEM),X射线衍射(XRD)、X射线粉末能谱仪(EDS)、循环伏安法(CV)和恒电流充放电(CP)对电极材料进行结构表征和电化学性能测试。结果表明:CoMn2O4纳米片以无定形结构均匀致密地沉积在泡沫镍表面,其放电比电容最高达1.14F/cm2,循环500次后,比电容保持率为65.5%。