光刻区缺陷管理

浸没式光刻和亚波长光刻技术的引进,光刻变得更为复杂;随着光阻厚度变薄和亚波长透镜的使用,对缺陷进行有效管理的需求逐渐增加。本文侧重于用 PCM(Photo Cell Monitoring)缺陷检测方式和显影后宏观和微观缺陷检测方式,对光刻缺陷进行监控,以减少缺陷产生。

中国300mm晶圆厂的成品率管理

当晶圆厂转向300mm、130纳米和90纳米工艺，并随着新的材料和工艺方法的引进，都为成品率管理带来独特的挑战和机会，那就是如何确保300mm晶圆缺陷计划的新重点。