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用改进灰关联法研究磁控溅射工艺参数对二氧化钛镀膜的影响
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作者 陈功 宗律 +4 位作者 张鑫道 潘俊杰 吴峰 王䶮 苏鹏举 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2022年第6期437-445,共9页
磁控溅射中工艺参数对二氧化钛镀膜透过率和厚度有较大影响,传统工艺参数决策所采用的单一因素法忽略参数间的关联性。构建的改进灰关联度量化模型在基于数据绝对位置差异的传统灰关联模型的基础上,考虑了数据间变化率差异,结合磁控溅... 磁控溅射中工艺参数对二氧化钛镀膜透过率和厚度有较大影响,传统工艺参数决策所采用的单一因素法忽略参数间的关联性。构建的改进灰关联度量化模型在基于数据绝对位置差异的传统灰关联模型的基础上,考虑了数据间变化率差异,结合磁控溅射中主要影响参数──溅射温度、本底真空压强、溅射气压和溅射电压,对不同改进模型参数进行实验,从实验结果中得到最优的改进灰关联度量化模型。用所建模型对不同数量组的二氧化钛薄膜透过率和厚度进行分析,并与相关性模型和传统灰关联模型进行比较。结果表明:相比于传统灰关联模型,所提出的改进模型在检测准确率上提升5~10个百分点,且更适合于透过率的工艺性能检测。 展开更多
关键词 二氧化钛薄膜 磁控溅射 透过率 厚度 改进灰关联度量化模型
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