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以甘氨酸为代表的氨基酸类化学添加剂在CMP工艺中的应用研究 |
张银婵
牛新环
周佳凯
杨程辉
冯子璇
常津睿
侯子阳
朱烨博
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《应用化工》
CAS
CSCD
北大核心
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2021 |
4
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2
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氮化镓化学机械抛光中抛光液的研究进展 |
罗付
牛新环
张银婵
朱烨博
侯子阳
屈明慧
闫晗
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《半导体技术》
CAS
北大核心
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2022 |
3
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3
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蓝宝石化学机械抛光液的研究进展 |
屈明慧
牛新环
侯子阳
张银婵
朱烨博
闫晗
罗付
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《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
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2022 |
2
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4
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铜互连CMP工艺中缓蚀剂应用的研究进展 |
闫晗
牛新环
张银婵
朱烨博
侯子阳
屈明慧
罗付
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《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
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2022 |
2
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