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高纯乙硼烷的研制
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作者 张锦葵 《低温与特气》 CAS 1986年第1期40-42,39,共4页
乙硼烷(B2H6)在半导体工业中作为成膜、外延和掺杂用气逐渐得到广泛应用。随着大规模集成电路集成度的提高,对B2H6纯度的要求也越来越高。在冶金工业中B2H6可用于.钢材的渗硼。据报道,渗硼后的钢材强度可提高十几倍。B2H6还可用于制... 乙硼烷(B2H6)在半导体工业中作为成膜、外延和掺杂用气逐渐得到广泛应用。随着大规模集成电路集成度的提高,对B2H6纯度的要求也越来越高。在冶金工业中B2H6可用于.钢材的渗硼。据报道,渗硼后的钢材强度可提高十几倍。B2H6还可用于制备氮化硼,它是一种重要的新兴工业的原料。因此,B2H6的用量和应用领域也日益扩大。 展开更多
关键词 乙硼烷 研制 高纯 半导体工业 电路集成度 大规模集成 冶金工业 应用领域 氮化硼 渗硼 钢材 成膜
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六氯二硅烷的制备方法
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作者 伊藤正义 宫川博治 张锦葵 《低温与特气》 CAS 1987年第3期36-41,共6页
本发明是关于用硅或硅合金进行氯化制备Si2Cl6的方法。在得到的生成物中含有Si3Cl8以上的高沸点组分。通过两段低级化处理,即(1)初始的副产高沸点组分,通过加热进行低级化反应处理,(2)残存的Si3Cl8以上的高沸点组分,通氯气进行低级... 本发明是关于用硅或硅合金进行氯化制备Si2Cl6的方法。在得到的生成物中含有Si3Cl8以上的高沸点组分。通过两段低级化处理,即(1)初始的副产高沸点组分,通过加热进行低级化反应处理,(2)残存的Si3Cl8以上的高沸点组分,通氯气进行低级化处理,从而获得收率较高的Si3Cl8制备方法。 展开更多
关键词 制备方法 二硅烷 高沸点组分 硅合金 生成物
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