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高纯乙硼烷的研制
1
作者
张锦葵
《低温与特气》
CAS
1986年第1期40-42,39,共4页
乙硼烷(B2H6)在半导体工业中作为成膜、外延和掺杂用气逐渐得到广泛应用。随着大规模集成电路集成度的提高,对B2H6纯度的要求也越来越高。在冶金工业中B2H6可用于.钢材的渗硼。据报道,渗硼后的钢材强度可提高十几倍。B2H6还可用于制...
乙硼烷(B2H6)在半导体工业中作为成膜、外延和掺杂用气逐渐得到广泛应用。随着大规模集成电路集成度的提高,对B2H6纯度的要求也越来越高。在冶金工业中B2H6可用于.钢材的渗硼。据报道,渗硼后的钢材强度可提高十几倍。B2H6还可用于制备氮化硼,它是一种重要的新兴工业的原料。因此,B2H6的用量和应用领域也日益扩大。
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关键词
乙硼烷
研制
高纯
半导体工业
电路集成度
大规模集成
冶金工业
应用领域
氮化硼
渗硼
钢材
成膜
下载PDF
职称材料
六氯二硅烷的制备方法
2
作者
伊藤正义
宫川博治
张锦葵
《低温与特气》
CAS
1987年第3期36-41,共6页
本发明是关于用硅或硅合金进行氯化制备Si2Cl6的方法。在得到的生成物中含有Si3Cl8以上的高沸点组分。通过两段低级化处理,即(1)初始的副产高沸点组分,通过加热进行低级化反应处理,(2)残存的Si3Cl8以上的高沸点组分,通氯气进行低级...
本发明是关于用硅或硅合金进行氯化制备Si2Cl6的方法。在得到的生成物中含有Si3Cl8以上的高沸点组分。通过两段低级化处理,即(1)初始的副产高沸点组分,通过加热进行低级化反应处理,(2)残存的Si3Cl8以上的高沸点组分,通氯气进行低级化处理,从而获得收率较高的Si3Cl8制备方法。
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关键词
制备方法
二硅烷
高沸点组分
硅合金
生成物
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职称材料
题名
高纯乙硼烷的研制
1
作者
张锦葵
机构
化工部光明化工研究所
出处
《低温与特气》
CAS
1986年第1期40-42,39,共4页
文摘
乙硼烷(B2H6)在半导体工业中作为成膜、外延和掺杂用气逐渐得到广泛应用。随着大规模集成电路集成度的提高,对B2H6纯度的要求也越来越高。在冶金工业中B2H6可用于.钢材的渗硼。据报道,渗硼后的钢材强度可提高十几倍。B2H6还可用于制备氮化硼,它是一种重要的新兴工业的原料。因此,B2H6的用量和应用领域也日益扩大。
关键词
乙硼烷
研制
高纯
半导体工业
电路集成度
大规模集成
冶金工业
应用领域
氮化硼
渗硼
钢材
成膜
分类号
TQ263.1 [化学工程—有机化工]
TQ133.1 [化学工程—无机化工]
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职称材料
题名
六氯二硅烷的制备方法
2
作者
伊藤正义
宫川博治
张锦葵
出处
《低温与特气》
CAS
1987年第3期36-41,共6页
文摘
本发明是关于用硅或硅合金进行氯化制备Si2Cl6的方法。在得到的生成物中含有Si3Cl8以上的高沸点组分。通过两段低级化处理,即(1)初始的副产高沸点组分,通过加热进行低级化反应处理,(2)残存的Si3Cl8以上的高沸点组分,通氯气进行低级化处理,从而获得收率较高的Si3Cl8制备方法。
关键词
制备方法
二硅烷
高沸点组分
硅合金
生成物
分类号
O627.41 [理学—有机化学]
TQ522.62 [化学工程—煤化学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
高纯乙硼烷的研制
张锦葵
《低温与特气》
CAS
1986
0
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职称材料
2
六氯二硅烷的制备方法
伊藤正义
宫川博治
张锦葵
《低温与特气》
CAS
1987
0
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职称材料
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