薄膜表面直接四光束激光干涉制备复眼的研究

基于四光束激光干涉光刻技术,在薄膜表面实现了四光束激光直接干涉光刻制备微纳复眼结构,为激光干涉光刻研究提供了一个新的应用方向。对于多层复合薄膜,激光干涉光刻的效果与薄膜的透光率相关,即在一定范围内,透光率影响光刻结构的形成。在保持四光束激光干涉光刻系统波长和入射角度不变的条件下,通过改变能量得到不同尺寸的周期性孔阵结构,与复眼结构一致,发现透光率分别为5%、30%和75%的薄膜在20-30mJ曝光时均可形成清晰的周期复眼结构,且在25 mJ时最为明显。在700-1 200nm波段使用反射率测试系统对光刻前后透光率为5%、30%和75%的薄膜进行了反射率测试,测试结果表明经光刻后形成的结构反射率普遍降低,可以在薄膜表面实现减反特性。