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从专利文献分析化学气相沉积金刚石膜技术进展
被引量:
2
1
作者
范保虎
彭波南
张恒超
《真空》
CAS
2016年第5期37-40,共4页
化学气相沉积金刚石膜具有优异性能,在高新技术领域有着广泛应用。本文从国内外专利文献方面着重分析化学气相沉积金刚石膜技术研究与应用进展。
关键词
化学气相沉积
金刚石膜
专利
下载PDF
职称材料
题名
从专利文献分析化学气相沉积金刚石膜技术进展
被引量:
2
1
作者
范保虎
彭波南
张恒超
机构
国家知识产权局专利局专利审查协作江苏中心
出处
《真空》
CAS
2016年第5期37-40,共4页
文摘
化学气相沉积金刚石膜具有优异性能,在高新技术领域有着广泛应用。本文从国内外专利文献方面着重分析化学气相沉积金刚石膜技术研究与应用进展。
关键词
化学气相沉积
金刚石膜
专利
Keywords
chemical vapor deposition(CVD)
diamond films
patent
分类号
TG174.45 [金属学及工艺—金属表面处理]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
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作者
出处
发文年
被引量
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1
从专利文献分析化学气相沉积金刚石膜技术进展
范保虎
彭波南
张恒超
《真空》
CAS
2016
2
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