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HgCdTe红外探测器CdTe钝化蒸发生长改进
被引量:
7
1
作者
徐竟杰
陈兴国
+3 位作者
周松敏
魏彦锋
林春
杨建荣
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第11期1263-1267,共5页
在液相外延生长(LPE)的碲镉汞(HgCdTe)外延薄膜(111)方向上蒸发生长碲化镉(CdTe)钝化层。在70~250℃范围内的各个不同的温度环境下进行碲化镉钝化膜的蒸发生长。根据需要,对各样本进行150~300℃各个温度下的后期退火处理。运用扫描电...
在液相外延生长(LPE)的碲镉汞(HgCdTe)外延薄膜(111)方向上蒸发生长碲化镉(CdTe)钝化层。在70~250℃范围内的各个不同的温度环境下进行碲化镉钝化膜的蒸发生长。根据需要,对各样本进行150~300℃各个温度下的后期退火处理。运用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、二次离子质谱(SIMS)、X射线衍射(XRD)观测技术表征碲化镉钝化膜的形貌结构、成分分布、晶体质量。结果表明,加热环境下蒸发生长碲化镉钝化膜可以消除常规蒸发生长中的柱状多晶结构,显著提高钝化品质;后期的退火处理还能进一步提高钝化膜质量。
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关键词
碲化镉
碲镉汞
钝化
扫描电镜
透射电镜
二次离子质谱
X射线衍射
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职称材料
砷掺HgCdTe长波红外光电二极管阵列的制备与性能
2
作者
李海滨
林春
+3 位作者
陈兴国
魏彦峰
徐竟杰
何力
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期403-406,共4页
采用砷(As)掺杂HgCdTe材料研制了响应截止波长为12.5μm,规格为256×1的长波红外光电二极管阵列.实验设计了一种新的pn结测量方法,测量发现砷掺长波HgCdTe材料离子注入形成pn结深度在3.6~5.3μm之间,而其最大横向尺寸大约是设计尺...
采用砷(As)掺杂HgCdTe材料研制了响应截止波长为12.5μm,规格为256×1的长波红外光电二极管阵列.实验设计了一种新的pn结测量方法,测量发现砷掺长波HgCdTe材料离子注入形成pn结深度在3.6~5.3μm之间,而其最大横向尺寸大约是设计尺寸的1.3倍.实验采用一种改进的表面处理工艺制备了砷掺HgCdTe长波红外光电二极管阵列,获得了良好的电学性能,该工艺与常规表面处理工艺相比可以使器件峰值阻抗提高2个量级,而-0.5 v偏压下的动态电阻可提高约30倍.研究认为,器件性能提高的原因是由于改进工艺可以有效抑制器件表面漏电流.
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关键词
As掺HgCdT
长波HgCdTe红外光电二极管阵列
伏安特性
表面处理工艺
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职称材料
题名
HgCdTe红外探测器CdTe钝化蒸发生长改进
被引量:
7
1
作者
徐竟杰
陈兴国
周松敏
魏彦锋
林春
杨建荣
机构
中国科学院上海技术物理研究所
中国科学院研究生院
出处
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第11期1263-1267,共5页
文摘
在液相外延生长(LPE)的碲镉汞(HgCdTe)外延薄膜(111)方向上蒸发生长碲化镉(CdTe)钝化层。在70~250℃范围内的各个不同的温度环境下进行碲化镉钝化膜的蒸发生长。根据需要,对各样本进行150~300℃各个温度下的后期退火处理。运用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、二次离子质谱(SIMS)、X射线衍射(XRD)观测技术表征碲化镉钝化膜的形貌结构、成分分布、晶体质量。结果表明,加热环境下蒸发生长碲化镉钝化膜可以消除常规蒸发生长中的柱状多晶结构,显著提高钝化品质;后期的退火处理还能进一步提高钝化膜质量。
关键词
碲化镉
碲镉汞
钝化
扫描电镜
透射电镜
二次离子质谱
X射线衍射
Keywords
CdTe
HgCdTe
passivation
SEM
TEM
SIMS
XRD
分类号
TN215 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
砷掺HgCdTe长波红外光电二极管阵列的制备与性能
2
作者
李海滨
林春
陈兴国
魏彦峰
徐竟杰
何力
机构
中国科学院上海技术物理所红外成像材料与器件重点实验室
中国科学院研究生院
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期403-406,共4页
基金
国家自然科学基金(6070612)~~
文摘
采用砷(As)掺杂HgCdTe材料研制了响应截止波长为12.5μm,规格为256×1的长波红外光电二极管阵列.实验设计了一种新的pn结测量方法,测量发现砷掺长波HgCdTe材料离子注入形成pn结深度在3.6~5.3μm之间,而其最大横向尺寸大约是设计尺寸的1.3倍.实验采用一种改进的表面处理工艺制备了砷掺HgCdTe长波红外光电二极管阵列,获得了良好的电学性能,该工艺与常规表面处理工艺相比可以使器件峰值阻抗提高2个量级,而-0.5 v偏压下的动态电阻可提高约30倍.研究认为,器件性能提高的原因是由于改进工艺可以有效抑制器件表面漏电流.
关键词
As掺HgCdT
长波HgCdTe红外光电二极管阵列
伏安特性
表面处理工艺
Keywords
arsenic doped HgCdTe
long-wavelength HgCdTe infrared photodiode arrays
electrical characteristic
surface processing
分类号
TN215 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
HgCdTe红外探测器CdTe钝化蒸发生长改进
徐竟杰
陈兴国
周松敏
魏彦锋
林春
杨建荣
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2012
7
下载PDF
职称材料
2
砷掺HgCdTe长波红外光电二极管阵列的制备与性能
李海滨
林春
陈兴国
魏彦峰
徐竟杰
何力
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
0
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职称材料
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