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工艺条件对c轴择优取向YBCO厚膜点阵常数的影响
被引量:
1
1
作者
刘春芳
唐辉
+1 位作者
徐静仁
周廉
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
1994年第1期26-30,共5页
用X射线衍射线对法测量了具有强C轴择优取向的YBCO厚膜的点阵常数C。用Ni基带制备的样品的点阵常数值小于过去报导过的烧结样品的点阵常数C值,也小于用Ag—Pd基带制备的样品的点阵常数c值。喷雾时基带加热温度的升高,...
用X射线衍射线对法测量了具有强C轴择优取向的YBCO厚膜的点阵常数C。用Ni基带制备的样品的点阵常数值小于过去报导过的烧结样品的点阵常数C值,也小于用Ag—Pd基带制备的样品的点阵常数c值。喷雾时基带加热温度的升高,喷雾后烧结温度的提高,和区熔时样品移动速度的加快,都使样品点阵常数c降低。一般来说,具有较高Tc值的样品具有较低的点阵常数c值.
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关键词
点阵常数
YBCO氧化物
厚膜
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职称材料
题名
工艺条件对c轴择优取向YBCO厚膜点阵常数的影响
被引量:
1
1
作者
刘春芳
唐辉
徐静仁
周廉
机构
西北有色金属研究院
出处
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
1994年第1期26-30,共5页
文摘
用X射线衍射线对法测量了具有强C轴择优取向的YBCO厚膜的点阵常数C。用Ni基带制备的样品的点阵常数值小于过去报导过的烧结样品的点阵常数C值,也小于用Ag—Pd基带制备的样品的点阵常数c值。喷雾时基带加热温度的升高,喷雾后烧结温度的提高,和区熔时样品移动速度的加快,都使样品点阵常数c降低。一般来说,具有较高Tc值的样品具有较低的点阵常数c值.
关键词
点阵常数
YBCO氧化物
厚膜
Keywords
lattice parameter YBCO oxide.thick film
分类号
TM262 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
工艺条件对c轴择优取向YBCO厚膜点阵常数的影响
刘春芳
唐辉
徐静仁
周廉
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
1994
1
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职称材料
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