基于化学清洗技术的TFT设备表面污染物去除与界面优化研究

本研究聚焦于TFT设备表面污染问题,旨在通过化学清洗技术有效去除表面污染物,并对界面进行优化。我们系统地归纳了TFT设备表面的污染种类,并探究了其产生的原因与影响因素,发现油污、灰尘等都会严重影响设备性能。为此,我们研究了化学清洗技术,详尽阐述了清洗的原理、清洗剂的选择及工艺流程,对于提升TFT设备生产过程的质量控制与性能提升具有重要意义。