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TiO_2薄膜制备及其氧敏特性 被引量:4
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作者 戴振清 孙以材 +2 位作者 潘国峰 孟凡斌 李国玉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期324-328,共5页
采用直流磁控溅射法制备TiO2 薄膜 ,在不同温度下对薄膜进行退火 ,研究了薄膜晶体结构随退火温度的转化情况 .对TiO2 薄膜氧敏器件特性进行了测试 ,结果表明 ,在 4 0 0℃下灵敏度随氧分压增加最快 ,并且在 4 0 0℃具有最高的灵敏度 .得... 采用直流磁控溅射法制备TiO2 薄膜 ,在不同温度下对薄膜进行退火 ,研究了薄膜晶体结构随退火温度的转化情况 .对TiO2 薄膜氧敏器件特性进行了测试 ,结果表明 ,在 4 0 0℃下灵敏度随氧分压增加最快 ,并且在 4 0 0℃具有最高的灵敏度 .得到的激活能为 0 4 1eV ,并对TiO2 薄膜氧敏器件的氧敏可逆性进行了讨论 . 展开更多
关键词 磁控溅射 TIO2薄膜 氧敏特性 激活能
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施主能级分裂下的电子分布函数改进 被引量:3
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作者 戴振清 杨克武 杨瑞霞 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期147-150,180,共5页
在半导体材料中,谷轨道耦合作用使得施主能级发生分裂(Valley-orbit splitting)。通过引进电子在分裂能级上的配分函数和综合平均能量增量,得到了适用于施主能级分裂的分布函数。利用新得到的分布函数对掺As的Si和含N的6H-SiC进行最小... 在半导体材料中,谷轨道耦合作用使得施主能级发生分裂(Valley-orbit splitting)。通过引进电子在分裂能级上的配分函数和综合平均能量增量,得到了适用于施主能级分裂的分布函数。利用新得到的分布函数对掺As的Si和含N的6H-SiC进行最小二乘曲线拟合,得到的杂质热电离能与光电离能完全吻合。 展开更多
关键词 施主能级分裂 配分函数 综合平均能量增量 分布函数
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金属氧化物掺杂对TiO_2气敏特性的影响 被引量:4
3
作者 戴振清 孙以材 +4 位作者 潘国峰 李国玉 陈志永 张艳辉 赵建立 《传感器世界》 2003年第9期10-14,共5页
掺杂金属氧化物可显著提高TiO2的气敏这一特性,正逐渐成为研究的热点。本文综述了掺杂金属氧化物对TiO2气敏特性的主要影响及机理;总结了目前研究中所掺杂的十多种金属氧化物,并就各种掺杂物对TiO2气敏特性的作用进行了具体分析。
关键词 金属氧化物 掺杂 TIO2 气敏特性 气敏传感器
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用于电路模拟的4H-SiC MOSFET高温沟道电子迁移率模型
4
作者 戴振清 杨瑞霞 杨克武 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1252-1255,共4页
提出了适用于电路模拟的4H-SiCn-MOSFET高温沟道电子迁移率模型.在新模型中,引入了横向有效电场和表面粗糙散射的温度依赖性,电子饱和漂移速度与横向有效电场和温度的关系,以及改进的界面陷阱电荷和固定氧化物电荷库仑散射模型等因素.... 提出了适用于电路模拟的4H-SiCn-MOSFET高温沟道电子迁移率模型.在新模型中,引入了横向有效电场和表面粗糙散射的温度依赖性,电子饱和漂移速度与横向有效电场和温度的关系,以及改进的界面陷阱电荷和固定氧化物电荷库仑散射模型等因素.采用与温度-阈值电压实验曲线拟合的方法,确定了界面态参数和固定氧化物电荷.基于新迁移率模型的模拟结果与实验吻合. 展开更多
关键词 4H-SIC N-MOSFET 阈值电压 界面态参数 高温迁移率
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SiC中基态施主能级分裂对杂质电离的影响
5
作者 戴振清 杨克武 杨瑞霞 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期232-235,共4页
对SiC中基态施主能级分裂对杂质电离的影响,与温度、掺杂浓度和杂质能级深度的关系进行了系统研究。发现只有在高温且掺杂浓度低的情况下,能级分裂的影响很小可忽略不计,其他条件下均需考虑能级分裂因素。随掺杂浓度的增加,能级分裂的... 对SiC中基态施主能级分裂对杂质电离的影响,与温度、掺杂浓度和杂质能级深度的关系进行了系统研究。发现只有在高温且掺杂浓度低的情况下,能级分裂的影响很小可忽略不计,其他条件下均需考虑能级分裂因素。随掺杂浓度的增加,能级分裂的影响增强;随温度的升高,能级分裂影响的整体趋势下降,但存在峰值。当杂质能级深度发生变化时,能级分裂的影响显得比较复杂;曲线上的峰值随着能级深度的增加而向高温方向移动,能级越浅峰就越小;并且在高于某一温度时,随能级的加深能级分裂的影响逐渐增强。 展开更多
关键词 碳化硅 基态施主能级分裂 杂质电离 掺杂浓度
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SiC中受主激发态对杂质电离的影响
6
作者 戴振清 杨克武 杨瑞霞 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第8期685-688,706,共5页
对Al掺杂4H-SiC中激发态对杂质电离的促进作用,与温度和掺杂浓度的关系进行了系统研究。发现促进作用随掺杂浓度的提高而增强,并且温度越高,随掺杂浓度的增加提高得越迅速;促进作用随温度的变化存在一峰值,并且随掺杂浓度的提高,峰值位... 对Al掺杂4H-SiC中激发态对杂质电离的促进作用,与温度和掺杂浓度的关系进行了系统研究。发现促进作用随掺杂浓度的提高而增强,并且温度越高,随掺杂浓度的增加提高得越迅速;促进作用随温度的变化存在一峰值,并且随掺杂浓度的提高,峰值位置逐渐向温度高的方向移动。研究了激发态数目与杂质电离关系,发现当温度或掺杂浓度很低时(T<200 K或NA<1.0×1014cm-3),无需考虑激发态对电离的影响;当温度很高时(>800 K),只需考虑较少的激发态(一般3个即可),而在其他情况则需考虑的激发态多一些。 展开更多
关键词 4H-SIC AL掺杂 电离度 激发态
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SiO_2/SiC界面陷阱电荷近似计算的局限
7
作者 戴振清 杨克武 杨瑞霞 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期308-312,共5页
从理论上分析了近似计算所引起的SiC基MOSFET两个重要参数阈值电压和沟道电流的误差。结果显示,在很多情况下近似计算都会带来很大的误差(>5%),尤其对于沟道电流,在大部分情况下误差很大,只是在少数条件下误差较小(<5%)。因此,近... 从理论上分析了近似计算所引起的SiC基MOSFET两个重要参数阈值电压和沟道电流的误差。结果显示,在很多情况下近似计算都会带来很大的误差(>5%),尤其对于沟道电流,在大部分情况下误差很大,只是在少数条件下误差较小(<5%)。因此,近似计算SiO2/SiC界面陷阱电荷不尽合理,应利用电子在界面态上的分布函数进行准确计算。 展开更多
关键词 碳化硅 界面陷阱电荷 近似计算 阈值电压
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施主能级分裂对SiC基p-MOSFET反型层电荷的影响
8
作者 戴振清 郝爱民 杨瑞霞 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期187-191,共5页
通过引进基态施主能级分裂因素,对SiC基p-MOSFET的反型层电荷模型进行了改进。经计算发现,在考虑到能级分裂后反型层电荷面密度降低,并且能级分裂的影响随栅电压绝对值的增加而减弱。在阈值电压处,能级分裂对反型层电荷的影响随掺杂浓... 通过引进基态施主能级分裂因素,对SiC基p-MOSFET的反型层电荷模型进行了改进。经计算发现,在考虑到能级分裂后反型层电荷面密度降低,并且能级分裂的影响随栅电压绝对值的增加而减弱。在阈值电压处,能级分裂对反型层电荷的影响随掺杂浓度的增加而增强,随温度的提高而减弱,同时也与杂质能级深度相关。在能级分裂影响下阈值电压的绝对值增加,不过增量较小。 展开更多
关键词 基态施主能级分裂 碳化硅 金属氧化物半导体场效应晶体管 反型层电荷
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引入杂质激发态因素的SiC MOSFET反型层电荷模型
9
作者 戴振清 杨瑞霞 杨克武 《电子器件》 CAS 2007年第4期1164-1167,共4页
引入杂质激发态因素,建立新的SiC MOSFET反型层电荷模型.利用数值方法求解一维泊松方程,研究激发态对反型层电荷的影响.结果显示,在杂质激发态的作用下,反型层的电子面密度降低,并且杂质激发态主要影响SiC MOSFET的亚阈区特性.杂质激发... 引入杂质激发态因素,建立新的SiC MOSFET反型层电荷模型.利用数值方法求解一维泊松方程,研究激发态对反型层电荷的影响.结果显示,在杂质激发态的作用下,反型层的电子面密度降低,并且杂质激发态主要影响SiC MOSFET的亚阈区特性.杂质激发态对SiC MOSFET反型层电荷的影响依赖于温度、掺杂浓度和杂质电离能.存在激发态影响最大的温度点,且其随掺杂浓度和电离能的增加而提高. 展开更多
关键词 激发态 SIC MOSFET 反型层电荷模型
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引入基态施主能级分裂的SiC基MOS电容模型
10
作者 戴振清 杨瑞霞 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期150-154,共5页
基态施主能级分裂因素被引入了SiC基MOS电容模型。考虑到能级分裂后,电容C-V特性曲线平带附近的Kink效应,得到有效减弱;并且能级分裂对C-V特性的影响,随掺杂浓度的增加和温度的降低而增强,同时也与杂质能级深度相关。对于耗尽区和弱积累... 基态施主能级分裂因素被引入了SiC基MOS电容模型。考虑到能级分裂后,电容C-V特性曲线平带附近的Kink效应,得到有效减弱;并且能级分裂对C-V特性的影响,随掺杂浓度的增加和温度的降低而增强,同时也与杂质能级深度相关。对于耗尽区和弱积累区,由于能级分裂的影响,电容的表面电荷面密度将分别有所增加和降低。 展开更多
关键词 基态施主能级分裂 碳化硅 金属氧化物半导体电容 电容-电压特性 表面电荷
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输出信号基于规范化多项式拟合的智能压力传感器 被引量:4
11
作者 李国玉 孙以材 戴振清 《自动化仪表》 CAS 2005年第1期29-33,共5页
利用多项式拟合的规范化方法来融合温度信息 ,实现了压力传感器的非线性修正和温漂补偿 ,得到了压力解析表达式 ;同时利用单片机进行采集和处理信息 ,实现了压力传感器的智能化。
关键词 压力传感器 输出信号 多项式拟合 单片机 非线性修正 温漂 智能化 解析表达式 补偿 采集
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非线性函数规范化多项式拟合精度分析 被引量:12
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作者 李国玉 孙以材 +1 位作者 潘国峰 戴振清 《传感器世界》 2004年第3期30-34,40,共6页
多项式可用于非线性信号的拟合,关键在于求解其各项系数。对于任何非线性函数,文献[1]提出一个规范化的拟合方法。
关键词 非线性函数 多项式拟合 规范化方法 拟合精度 传感器
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基于因子分析和聚类分析的我国财产保险业发展影响因素和地区差异分析 被引量:1
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作者 孙多青 王亚楠 +2 位作者 戴振清 于然 马晓英 《河北科技师范学院学报》 CAS 2021年第3期64-69,共6页
为了分析我国财产保险业发展的影响因素和地区差异,选取了人均可支配收入、国内生产总值、总人口、人均受教育年限、社会保障福利费、财产保险公司资产和财产保费收入等7个影响我国财产保险的因素,通过因子分析进行降维,用2个指标代替以... 为了分析我国财产保险业发展的影响因素和地区差异,选取了人均可支配收入、国内生产总值、总人口、人均受教育年限、社会保障福利费、财产保险公司资产和财产保费收入等7个影响我国财产保险的因素,通过因子分析进行降维,用2个指标代替以上7个指标,并运用聚类分析来分析财产保险在我国31个地区之间的差异。结果表明,东南部绝大多数省市的财产保险业发展较好,其中以广东省发展最好,山西等省自治区发展较慢(落后)。为了提高我国财产保险整体的发展水平,国家相关部门应该在保证东南部发展的基础上,制定针对性政策、措施,促进我国西北部地区财产保险业的发展。 展开更多
关键词 财产保险 地区差异 影响因素 因子分析 聚类分析
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基于BP网络的敏感电子器件二信息融合
14
作者 李国玉 孙以材 戴振清 《电子器件》 CAS 2004年第1期35-39,共5页
压力传感器的输出信号在实际应用中受多个非目标参量的影响,其中它对温度的敏感成为其最大的缺点。我们提出了利用BP网络的二敏感电子器件信息融合来消除温度对压力传感器输出信号的影响,提高其精度和可靠性。该方法利用BP网络的Levenbe... 压力传感器的输出信号在实际应用中受多个非目标参量的影响,其中它对温度的敏感成为其最大的缺点。我们提出了利用BP网络的二敏感电子器件信息融合来消除温度对压力传感器输出信号的影响,提高其精度和可靠性。该方法利用BP网络的Levenberg-Marquardt算法实现数据融合,网络结构简单,学习速度快,具有很好的应用前景。 展开更多
关键词 BP网络 压力传感器 算法 数据融合
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扶手椅型石墨烯纳米带边缘的硼掺杂
15
作者 戴振清 张启周 杨雅君 《河北科技师范学院学报》 CAS 2014年第4期31-35,共5页
利用第一性原理研究了2种边缘掺杂硼方式的扶手椅型石墨烯纳米带。结果表明:硼掺杂使得沿纳米带方向的晶格常数发生改变,并且在能带隙中出现新的能带。对于原胞中添加4个硼原子的掺杂方式(B1-7AGNR),沿纳米带方向的晶格常数有所增加,在... 利用第一性原理研究了2种边缘掺杂硼方式的扶手椅型石墨烯纳米带。结果表明:硼掺杂使得沿纳米带方向的晶格常数发生改变,并且在能带隙中出现新的能带。对于原胞中添加4个硼原子的掺杂方式(B1-7AGNR),沿纳米带方向的晶格常数有所增加,在带隙中出现了4条能带,其中2条能带来自于硼的2pz轨道,其余2条能带主要来自于硼的2px和2py轨道。对于原胞中添加2个硼原子的掺杂方式(B2-7AGNR),沿纳米带方向的晶格常数有所减小,在带隙中出现了2条能带,其来自于硼的2pz轨道。 展开更多
关键词 石墨烯纳米带 硼掺杂 能带 晶格常数 第一性原理
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与地面完全弹性碰撞的小球的运动
16
作者 戴振清 徐秋 《河北职业技术师范学院学报》 2000年第3期53-54,共2页
利用脉冲函数整体地表达出了小球所受的力 。
关键词 弹性碰撞 脉冲函数 阶跃函数 小球 运动方程
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碳纳米管场效应型DMMP气敏传感器研究
17
作者 陈海燕 陈长鑫 +4 位作者 戴振清 杨志 魏良明 徐东 张亚非 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第1期45-49,共5页
基于单壁碳纳米管(SWCNT)的场效应气体传感器由于具有传感性能好、体积小、室温操作和加偏压自我解吸附等优良性能,有着广泛的应用前景。利用单壁碳纳米管自组装技术在SiO2/Si基底上制备均匀分布的SWCNT薄膜,将其作为沟道制作了具有灵... 基于单壁碳纳米管(SWCNT)的场效应气体传感器由于具有传感性能好、体积小、室温操作和加偏压自我解吸附等优良性能,有着广泛的应用前景。利用单壁碳纳米管自组装技术在SiO2/Si基底上制备均匀分布的SWCNT薄膜,将其作为沟道制作了具有灵敏开关特性的场效应晶体管(FET),该FET器件的开关比达到105。将此FET器件作为气体传感芯片用于甲基膦酸二甲酯(DMMP)气体分子的检测。结果显示,当通入DMMP气体时,器件的阈值电压向负栅电压方向移动。当DMMP体积分数为5×10-6,栅压为-10 V时,器件的灵敏度达到32%,响应时间为300 s。在15 V的栅压下器件能够很快地实现气体解吸附。 展开更多
关键词 碳纳米管 场效应器件 气体传感器 解吸附 SIO2/SI
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禽内源性反转录病毒ALVE1在鸡基因组上下游序列鉴定 被引量:2
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作者 戴振清 胡序明 +5 位作者 王芳 陈世豪 贾崇信 豆春峰 耿拓宇 崔恒宓 《中国动物传染病学报》 CAS 北大核心 2017年第6期64-69,共6页
已知鸡基因组中含有禽内源性反转录病毒ALVE1序列,而ALVE1在鸡基因组中的上游和下游区域位置在参考基因组中并未成功鉴定。本研究成功鉴定出ALVE1所在鸡基因组中的上、下游序列,并通过提取CEF细胞和DF-1细胞基因组反过来验证了ALVE1的... 已知鸡基因组中含有禽内源性反转录病毒ALVE1序列,而ALVE1在鸡基因组中的上游和下游区域位置在参考基因组中并未成功鉴定。本研究成功鉴定出ALVE1所在鸡基因组中的上、下游序列,并通过提取CEF细胞和DF-1细胞基因组反过来验证了ALVE1的位置信息。与参考基因组不同的是,我们发现ALVE1序列包含3'LTR序列,在鸡1号染色体上的插入位置为chr1:65,995,534~65,993,540。本研究不仅提供了ALVE1在鸡基因组中的完整信息,也为进一步研究ALVE1的功能奠定了基础。 展开更多
关键词 禽内源性反转录病毒 ALVE1 鉴定
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ZnO nanowire network transistors based on a self-assembly method
19
作者 戴振清 陈长鑫 +4 位作者 张耀中 魏良明 张竞 徐东 张亚非 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2012年第8期48-53,共6页
Dense,uniform ZnO nanowire(NW) networks are prepared by using a simple and sufficient selfassembly method.In this method,ZnO NWs are modified with aminopropyltriethoxysilane(APTES) to form positively charged amine... Dense,uniform ZnO nanowire(NW) networks are prepared by using a simple and sufficient selfassembly method.In this method,ZnO NWs are modified with aminopropyltriethoxysilane(APTES) to form positively charged amine-terminated surfaces.The modified ZnO NWs are adsorbed on negatively charged SiO_2/Si substrates to form ZnO NW networks by the electrostatic interaction in an aqueous solution.Field-effect transistors (FETs) are fabricated and studied based on the ZnO NW networks.For a typical device with an NW density of 2.8μm~^-2,it exhibits a current on/off ratio of 2.4×10^5,a transconductance of 336 nS,and a field-effect mobility of 27.4 cm^2/(V·s). 展开更多
关键词 self-assembly method ZnO nanowire networks field-effect transistors
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Fabrication of SiC nanowire thin-film transistors using dielectrophoresis
20
作者 戴振清 张丽英 +5 位作者 陈长鑫 钱炳建 徐东 陈海燕 魏良明 张亚非 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2012年第11期37-42,共6页
The selection of solvents for SiC nanowires(NWs) in a dielectrophoretic process is discussed theoretically and experimentally.From the viewpoints of dielectrophoresis force and torque,volatility,as well as toxicity,... The selection of solvents for SiC nanowires(NWs) in a dielectrophoretic process is discussed theoretically and experimentally.From the viewpoints of dielectrophoresis force and torque,volatility,as well as toxicity, isopropanol(IPA) is considered as a proper candidate.By using the dielectrophoretic process,SiC NWs are aligned and NW thin films are prepared.The densities of the aligned SiC NWs are 2μm^(-1),4μm^(-1),6μm^(-1),which corresponds to SiC NW concentrations of 0.1μg/μL,0.3μg/μL and 0.5μg/μL,respectively.Thin-film transistors are fabricated based on the aligned SiC NWs of 6μm^(-1).The mobility of a typical device is estimated to be 13.4cm^2/(V·s). 展开更多
关键词 dielectrophoresis SiC nanowires thin-film transistors
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