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离子束辅助脉冲激光沉积硼碳氮薄膜 被引量:1
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作者 俞丹 卢意飞 +2 位作者 戴祝萍 孙剑 吴嘉达 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期101-106,共6页
以烧结B4C为靶材料、在氮离子束辅助下用脉冲激光沉积方法制备了三元化合物硼碳氮(BCN)薄膜。用X光电子谱和傅立叶变换红外谱方法表征了制备的薄膜。结果表明,膜层中包含B-C、N-C、B-N键等复合结构,以B-C-N原子杂化的形式结合成键,而并... 以烧结B4C为靶材料、在氮离子束辅助下用脉冲激光沉积方法制备了三元化合物硼碳氮(BCN)薄膜。用X光电子谱和傅立叶变换红外谱方法表征了制备的薄膜。结果表明,膜层中包含B-C、N-C、B-N键等复合结构,以B-C-N原子杂化的形式结合成键,而并非各种成分的简单混合。还探讨了成膜过程和相关机理,离子束中的活性氮有效地和脉冲激光对B4C靶烧蚀产生的硼和碳结合成键,氮离子束的辅助还能在一定程度上抑制氧杂质进入膜层,给衬底适当加温有利于提高氮的含量并影响薄膜的化学结构。 展开更多
关键词 硼碳氮薄膜 脉冲激光沉积 离子束辅助沉积 Kauffman离子源
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