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题名纯铝材电解液微弧氮化工艺探讨
被引量:2
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作者
孙奉娄
戴茂飞
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机构
中南民族大学等离子体研究所
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出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第9期12-14,91,共3页
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基金
武汉市重点科技攻关计划项目(200721023420)
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文摘
电解液微弧氮化工艺简单,过去未见用其制备AlN膜的报道。采用电解液微弧氮化工艺在纯铝基片上制备了AlN陶瓷膜,利用正交试验优化工艺,研究了最优工艺制备的膜层的物相、形貌,并探讨了占空比、放电频率对膜层硬度、绝缘电阻、耐压值的影响。结果表明:正交试验优化的工艺为100 mL超纯水中CO(NH2)2 35.0 g,EDTA-2Na 3.0 g,放电频率1.0 kHz,占空比20%;各因素的影响由主到次依次为CO(NH2)2浓度、占空比、放电频率、EDTA-2Na浓度;最优工艺制备的陶瓷膜由多晶AlN组成,膜层致密;选择适当的占空比和放电频率有利于改善AlN陶瓷膜的性能。
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关键词
电解液微弧氮化
AlN陶瓷膜
纯铝材
电解液浓度
放电参数
性能
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Keywords
micro-arc nitriding in electrolyte
AlN film
Al
electrolyte concentration
discharge parameter
performance
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分类号
TG174.4
[金属学及工艺—金属表面处理]
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