用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积氮化钛膜的研究

用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积ＴｉＮ膜，研究了沉积工艺参数对膜层结构、膜层成分、断口形貌和膜层硬度的影响．结果表明，在５００～７００℃温度范围内，可以沉积出单相的ＴｉＮ膜，膜层结构致密，硬度可达Ｈｖ２１５６０Ｎ／ｍｍ２．在５００片刀片装炉量的情况下，沉积室中不同部位的刀片均可得到相同结构和优异性能的膜层，因此采用此沉积法可以实现批量化生产．

金刚石和类金刚石膜研究及其在电声领域中的应用

金刚石和类金刚石膜是当今材料界的研究热点之一，有着极其诱人的应用前景。本文简要综述了该膜系的发展过程和现在水平。并结合作者自己的研究工作，对膜系应用于扬声器振膜上以提高其高频响应范围的研究和应用工作进行较全面的调研，综述了国内外在该领域的最新进展。

CrTiAlCN多元多层梯度膜的制备及其结构

采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜,利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及X射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明:沉积制备的膜层为多层梯度过渡结构,成分深度分布及相结构分析证实,所制备的多元多层梯度膜与所设计的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN结构相吻合;在梯度过渡中,不同层之间界面体现为渐变过渡过程;沉积制备的多元多层梯度膜硬度高达26.31GPa,膜/基结合力大于80N,摩擦因数低至0.113,力学性能优良。

阴极电弧沉积TiN薄膜研究

对真空阴极电弧沉积TiN装饰膜的沉积工艺和膜层性能的关系进行了研究。结果表明:适当选择N_2分压和负偏压对于改善基体表面离子轰击清洗效果、减少液滴分布、保证膜层颜色和提高膜层耐蚀性至关重要。另外,X射线织构分析表明:(220)织构随负偏压加大而增加,而(111)织构则随N_2分压增大而增加,这可由离子轰击诱导织构效应解释。

真空阴极电弧沉积碳氮膜的研究

以氮气为反应气体 ,用真空阴极电弧沉积法沉积了CNx膜 ,并利用金相显微镜、Auger电子谱仪、FTIR及XRD对其进了分析。结果表明 :真空阴极电弧沉积法可以制备含N量高。

硬质合金刀具的类金刚石涂层的研究

采用优化的沉积类金刚石（ＤＬＣ）涂层工艺及过渡层技术，在硬质合金上制备出性能优良 的ＤＬＣ膜．实验室切削试验与工业生产现场切削表明：在切削铝青铜和共晶铝硅合金时，ＤＬＣ膜

甲烷浓度对金刚石膜表面形貌及其热导率的影响

以甲烷为碳源气体 ,用直流等离子射流法制备了金刚石膜 .研究了不同甲烷浓度对金刚石膜的表面形貌和热导率的影响 .结果表明 ,在甲烷浓度φ(CH4)为 1.5 %时 ,可以获得较高热导率的金刚石膜 .

真空阴极电弧沉积TiN超硬膜的研究

研究了真空阴极电弧法沉积 TiN 超硬膜的工艺和应用.结果表明,氮气分压强和负偏压对膜层的结构和性能有很大影响,在氮气分压强为1.30Pa,负偏压为—300V 时沉积的膜层表面"钛滴"少,膜层致密,为细柱状晶和粒状晶结构,具有(220)和(111)织构,硬度可达到 Hv2100以上,涂层钻头寿命达到了未涂覆涂层钻头的6.7倍.

真空阴极电弧沉积法沉积类金刚石膜的研究

克服了真空石墨电弧沉积过程中的一些难点,成功地利用真空阴极电弧沉积法制备了类金刚石膜,并对其表面形貌、硬度及结合强度、结构进行了分析,结果表明,真空阴极电弧沉积法是制备综合性能良好的光亮类金刚石膜的有效方法．类金刚石膜为非晶结构,具有明显的sp3结构特征．

RF-PCVD低温沉积无色透明类金刚石保护膜的工艺研究

采用磁约束增强射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法（RF—PCVD）低温沉积出无色透明的类金刚石保护膜（DLC），主要研究了炉压P0、射频功率Pf、自生负偏压U2、磁感应强度B、电极间距d、反应气体、镀膜时间t等工艺参数对成膜的影响．试验结果表明，外加磁场B制约了带电粒子逃逸出电极空间，提高了反应气体的离化率及等离子体浓度和活性，并使非独立变量Pf和Uz成为独立变量，有利于工艺调节．当极间距大时，需适当提高Pf，Uz和C-H流量才可得到无色、较硬的DLC膜．在比功率密度大于0．009W·cm^-2·Pa^-1、C-H浓度即体积分数0．9％～1．4％及膜厚小于90nm的条件下，可沉积出无色透明、硬度较高的DLC膜．

真空阴极电弧沉积 TiN 装饰膜工艺与应用研究

本文研究了真空阴极电弧沉积 TiN 装饰膜的工艺及其应用.利用 X 射线衍射、扫描电镜等方法,分析了膜层性能与沉积工艺之间的关系,结果表明:(1)适当增大气氛压力,可减少 Ti 液滴,从而提高了膜层的显微硬度和耐腐蚀性能;(2)膜层颜色与负偏压和氮分压有关.本文报导了工艺参数对膜层织构和品格畸变的影响.本文还对表壳、表带、餐具.陶瓷制品仿金镀等应用问题进行了讨论.

真空阴极电弧沉积法沉积类金刚石膜在扬声器振膜上应用的研究

采用真空阴极电弧沉积技术 ,在纯钛球顶高音扬声器振膜上镀类金刚石膜 ,成为类金刚石 /钛复合振膜 .研究了钛基体的材质、厚度、振膜的几何尺寸和形状、类金刚石镀膜工艺参数对复合振膜性能的影响 .在镀膜过程中采用特殊的辅助夹具以及合理的遮挡技术 ,保证振膜不变形和最佳的类金刚石膜层厚度分布 ,使类金刚石 /钛复合振膜的频响达到 30 k Hz,并且能实现批量生产 .

沉积类金刚石膜过程对钛箔基体性能和组织的影响

本文采用真空阴极电弧沉积方法，研究在成型Ｔｉ箔上沉积类金刚石（ＤＬＣ）膜以制备ＤＬＣ／Ｔｉ复合扬声器振膜过程中，Ｔｉ箔性能与组织的变化时发现，镀膜前的“轰击”处理使Ｔｉ箔发生完全再结晶，基体显微硬度下降；随后的镀膜过程使基体显微硬度回升，其回升幅度主要与沉积速率、沉积温度、膜层厚度等因素有关。伴随硬度的回升，显微组织出现进一步的细化。沉积ＤＬＣ膜过程中的这种“双重强化”效应在实际场合中是十分有用的。

真空阴极电弧沉积TiN超硬膜在精冲模具上的应用

对真空阴极电弧沉积TiN超硬膜在四种不同材质的精冲模具上的应用进行了研究.结果表明,回火软化温度低的T10钢和CrWMn钢不宜用作沉积TiN膜的基体材料;具有回火脆性的Cr12钢沉积TiN膜后用于低载荷的场合时效果较好,模具使用寿命比未镀膜的高4倍;回火软化温度高的W18Cr4V高速钢沉积TiN膜后的使用效果最好,使用寿命可提高6.6倍以上.沉积温度对基材的性能影响很大,在确保基体不严重软化的前提下,提高镀膜温度有利于模具寿命的提高.TiN涂覆模具的寿命还与被冲材料的性能有关.

高保真类金刚石／钛复合球顶高频扬声器振膜的研制

本文采用真空阴极电弧沉积方法在纯钛球顶扬声器振膜基体上沉积类金刚石（ＤＬＣ）薄膜。研制成ＤＬＣ／Ｔｉ复合球顶振膜。着重讨论了钛基体的材质、厚度、振膜形状尺寸、ＤＬＣ镀膜工艺参数对复合振膜性能的影响，并讨论了在镀膜过程中采用辅助工夹具以及合理的遮挡技术，保证振膜不变形和最佳的ＤＬＣ膜层厚度与分布，使ＤＬＣ／Ｔｉ球顶复合振膜频响达３０ｋＨｚ。

碳氮膜的沉积工艺及其结构研究

以氨气为反应气体 ,用真空阴极电弧沉积法制备了 CNx 膜 ,研究了工艺参数对膜层的沉积速率、化学成分的影响及膜层结合状态 .结果表明 :沉积速率随着氨气分压的提高而下降 ,当氨气分压达到 6 .7Pa时将没有膜的沉积 ;CNx 膜主要由碳和氮组成 ,降低真空系统的抽速、将反应气体导至靶面附近、提高氨气分压可以提高膜层中氮含量 ;氮是以化合态存在于膜层中 .

WC/DLC纳米多层膜微观结构研究

阳极层流型气体离子源与非平衡磁控溅射复合技术沉积制备WC/DLC纳米多层膜,并在膜/基间设计了中间过渡层。用扫描电镜、拉曼光谱仪、光电子能谱仪、X衍射仪、透射电镜、干涉显微镜等,对WC/DLC纳米多层膜的微观形貌结构进行分析研究。结果表明:沉积的WC/DLC膜层表面致密、光滑细腻;多层调制周期在3～4 nm,多层界面不清晰,形成渐变过渡界面。WC/DLC膜中主要是sp2键中掺杂有一定量的sp3键,WC则以纳米晶结构弥散分布在DLC之中。

VCAD法沉积氮化钛膜的X-射线研究

用 VCAD 法在不锈钢和工模具钢基体上沉积均匀、致密的 TiN 膜时,TiN 膜的色泽、结晶取向和点阵常数均可能随着工艺参数的改变而改变,论文作者用 XRD 法研究了不同条件下该 TiN 膜的结构和点阵常数的变化,以及择优取向度,并对膜的行为差异作了分析,结果表明:随着涂层中氮含量的增加,点阵常数值增大;TiN_x 的色泽与氮含量有关;择优取向主要取决于偏压。

等离子体化学气相沉积的布气装置之设计

推导了在设计真空镀膜设备时 ,计算镀膜室内布气管的直径和出气孔孔径的公式 ,di =[d-41- D-4L∑im=2(n + 1- m) /(h + 10 -6Bq) ]-1/4 ,以达到均匀布气的目的 .给出了在等离子体化学气相沉积设备中的计算实例及应用情况 ,实践证明 ,用此公式设计真空镀膜均匀布气装置是可行的 .

金属铟提高Cu-Al合金抗失泽能力机理的研究

本文采用常规腐蚀试验与电化学试验方法以及金相、X射线衍线、电子探针等分析方法研究了含铟的Cu-Al合金在人工汗液中抗失泽能力的机理。结果表明,铟能细化合金的晶粒,并使合金呈现均匀腐蚀,减弱合金的择优取向;合金中存在富铟偏析相,这些相影响合金的失泽行为。