提高小儿头皮静脉穿刺成功率的方法探讨

目的探讨提高小儿头皮静脉穿刺成功率的方法。方法选取2013年1月至2013年4月我院观察室290例小儿头皮静脉输液患儿作为研究对象,通过回顾分析法,将其分为甲、乙、丙、丁四组,对其分别采用调节器高调输液瓶高挂、调节器高调输液瓶低挂、调节器低调输液瓶高挂、调节器低调输液瓶低挂等四种方法,对小儿头皮静脉穿刺不同穿刺部位和成功率等进行比较。结果甲组的成功率94.92%、乙组的成功率89.94%、丙组的成功率72.59%、丁组的成功率81.82%。其中额正中静脉穿刺的成功率为94.02%,颞浅静脉穿刺成功率71.90%,外眦上静脉成功率为77.64%,顶部静脉成功率为80.43%,耳后静脉成功率为82.78%,颅骨缝间静脉成功率为85.67%。通过四组的比较,甲组方法的成功率明显要比其他各组的高,比较差异具有统计学意义(P<0.05)。结论通过研究表明,对小儿头皮静脉穿刺主要采用调节器高调输液瓶高挂的方法,其回血最快,且成功率明显要比其他各方法高。同时,血管选择以及穿刺的方法技巧是小儿头皮静脉穿刺一次成功的重要原因。

磁控溅射法制备的MoO_x薄膜材料特性

MoOx材料因其较低的反射率,在窄边框液晶显示技术等领域是一种理想的材料。本文利用磁控溅射法在玻璃基板上制备MoOx薄膜,并在MoOx薄膜上沉积不同的金属层,采用不同的方法研究MoOx薄膜及其搭配金属层的特性。测试结果表明MoOx和玻璃基板的粘附性较好,无须打底膜可在玻璃基板上直接沉积;MoOx和Al及Cu的粘附效果优于Mo及MTD等Mo合金;MoOx薄膜的方块电阻值较大,搭配金属层时可忽略不计;MoOx厚度对搭配金属膜的反射率及色差影响很大,而金属层厚度影响较小。对于采用MoOx作低反材料的工艺,可以根据MoOx材料的特性选择搭配不同的金属层,在满足反射率等要求的基础上,可通过调整MoOx层厚度来调整产品的色差,以满足客户的颜色喜好需求。

热处理对磁控溅射法制备p-ITO(40 nm)薄膜特性的影响

为改善在实际生产中,p-ITO在膜厚较薄时所表现出的多种不良,如退火后膜质存在花斑不良、膜层易被刻蚀液腐蚀等,进行退火对p-ITO薄膜特性影响的研究。本实验利用磁控溅射法在玻璃基板上制备出40nm厚度的p-ITO膜,并在氮气环境中对膜层进行不同温度和时间的退火处理。分别采用XRD、AFM和SEM对p-ITO的结晶度和微观结构进行表征,并使用四探针(4-point probe,4P)和自动光学测试设备分别测试其方块电阻和光透射率。测试结果表明:pITO结晶温度相对于α-ITO存在严重滞后性;α-ITO(40nm)230℃已结晶充分,而p-ITO在230℃才开始结晶;p-ITO在230～250℃时结晶程度及均一性较差,导致多种特性的不稳定,比如膜质花斑状颜色差异(花斑不良),方块电阻、膜层厚度均一性差,膜层易受腐蚀等;退火温度提高到260～270℃时结晶基本完全,对薄膜的各种特性改善效果显著,如方块电阻降低、光透射率增加、花斑和腐蚀改善等。测试数据还反映出玻璃中部位置相对于边缘位置结晶程度差,可能原因为退火设备实际生产时玻璃中间位置热风阻力较边缘位置大,受热不充分导致。适当提高退火温度和时间,对pITO实际生产中遇到的多种不良有显著改善效果。

ADS产品磁控溅射法制备SD层的膜层黑点

ADS产品SD制程时产生的膜层黑点不良,影响产品良率。本文研究了膜层黑点不良的形成机理和影响因素,结果表明:膜层黑点不良是膜层沉积时,底部膜层水气释放导致的膜层鼓包;SD层前制程工艺Strip0(1st ITO Strip)工序导致的干燥不良,是膜层黑点产生的根本原因;SD设备水气去除能力的差异,导致了成膜机台黑点不良发生率的不同。

儿科护理工作中康复护理服务的应用价值分析

目的：分析康复护理服务在儿科护理工作中的应用价值。方法：随机选取2014年6月～2015年6月我院儿科接收的患儿120例，分为研究组与对照组，研究组60例施行康复护理服务；对照组60例施行常规性护理服务，分析2组的护理的总有效率。结果：护理后，研究组患儿总有效率为95．0％，对照组患儿总有效率为80．0％，研究组患儿护理后总有效率显著优于对照组（P＜0．05）。结论：对患儿实施康复护理服务，能够有效缓解患儿情绪，促进医护工作的顺利进行，提高患儿家属的满意程度，值得在临床上进一步推广与应用。