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开拓超高真空的世界(五)——支撑高技术的基础
1
作者
姜祥祺
扬锡良
小宫宗治
《真空与低温》
1989年第3期53-63,共11页
九、不断发展的等离子体离子束应用技术现代半导体工厂第六章介绍了等离子加工中的溅射镀膜技术。第七、第八章介绍了作为清洁真空的基础的超高真空技术,并以表面科学和分子束外延为例说明了超高真空技术的应用。超高真空技术不仅仅是...
九、不断发展的等离子体离子束应用技术现代半导体工厂第六章介绍了等离子加工中的溅射镀膜技术。第七、第八章介绍了作为清洁真空的基础的超高真空技术,并以表面科学和分子束外延为例说明了超高真空技术的应用。超高真空技术不仅仅是高技术,而且也是不断应用于实际的技术。这一章将介绍半导体工厂的超大规模集成电路生产中使用的硅片刻蚀工艺。超大规模集成电路的制造工序十分复杂。
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关键词
超高真空
清洁真空
获得技术
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职称材料
题名
开拓超高真空的世界(五)——支撑高技术的基础
1
作者
姜祥祺
扬锡良
小宫宗治
出处
《真空与低温》
1989年第3期53-63,共11页
文摘
九、不断发展的等离子体离子束应用技术现代半导体工厂第六章介绍了等离子加工中的溅射镀膜技术。第七、第八章介绍了作为清洁真空的基础的超高真空技术,并以表面科学和分子束外延为例说明了超高真空技术的应用。超高真空技术不仅仅是高技术,而且也是不断应用于实际的技术。这一章将介绍半导体工厂的超大规模集成电路生产中使用的硅片刻蚀工艺。超大规模集成电路的制造工序十分复杂。
关键词
超高真空
清洁真空
获得技术
分类号
TB751 [一般工业技术—真空技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
开拓超高真空的世界(五)——支撑高技术的基础
姜祥祺
扬锡良
小宫宗治
《真空与低温》
1989
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