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1
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沉积类金刚石碳膜用的CH4／H2微波等离子体 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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1997 |
0 |
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2
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用硅烷和氮混合物的低温等离子体沉积氮化硅薄膜 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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2000 |
0 |
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3
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放电频率对高密度Cl2等离子体中等离子体特性和蚀刻特性的影响 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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2000 |
0 |
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4
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等离子体炬用的通气式电极 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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1996 |
0 |
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5
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使用氢基团注入辅助的RF磁控管甲醇等离子体CVD合成金刚石 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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1996 |
0 |
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6
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低温MPECVD系统中基片状态对金刚石薄膜形成的影响 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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1996 |
0 |
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7
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高密度等离子体VUV光子引起的SiO2表面的辐射损伤 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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1995 |
0 |
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8
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富勒烯的研究现状 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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1995 |
0 |
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9
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空心阴极磁控管 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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2000 |
0 |
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10
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圆TE01模微波产生大横截面均匀ECR等离子体的机理 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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1996 |
0 |
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11
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氧等离子体阳极氧化铝膜表面结构分析 |
文允鉴
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《等离子体应用技术快报》
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1996 |
0 |
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