碲氧薄膜是很有希望的可擦写光盘介质材料。本文用射频溅射技术制备碲氧系统的薄膜。测定热处理前后薄膜的光学特性(光透过率、反射率、折射指数、光吸收系数和光能隙)和 X 射线衍射特性,并研究了这些性能与靶材的组份关系,还测定了这...碲氧薄膜是很有希望的可擦写光盘介质材料。本文用射频溅射技术制备碲氧系统的薄膜。测定热处理前后薄膜的光学特性(光透过率、反射率、折射指数、光吸收系数和光能隙)和 X 射线衍射特性,并研究了这些性能与靶材的组份关系,还测定了这些薄膜激光喇曼光谱,并讨论它们的结构特征。展开更多