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吡柔比星在羧基离子注入氧化铟锡电极上的电化学还原及其测定 被引量:1
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作者 李硕琦 杨玉飞 +4 位作者 杨少媛 叶森云 方华权 胡劲波 李启隆 《分析化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期990-993,共4页
采用离子注入技术将羧基离子注入到氧化铟锡(ITO)表面,制备了羧基离子注入氧化铟锡电极(COOH/ITO)。电极表面羧基的引入用X射线光电子能谱(XPS)进行表征。此电极被应用到了吡柔比星的电化学行为的研究及其测定当中。在COOH/ITO电极上,... 采用离子注入技术将羧基离子注入到氧化铟锡(ITO)表面,制备了羧基离子注入氧化铟锡电极(COOH/ITO)。电极表面羧基的引入用X射线光电子能谱(XPS)进行表征。此电极被应用到了吡柔比星的电化学行为的研究及其测定当中。在COOH/ITO电极上,吡柔比星在5 mmol/L磷酸盐缓冲溶液(pH 7.2)中,出现还原峰,峰电位为-0.57 V(vs.Ag/AgCl),峰电流与THP浓度在2.0×10-9~2.5×10-8 mol/L和1.4×10-7~2.8×10-6 mol/L呈线性关系,检出限为2×10-10 mol/L。循环伏安法研究表明,此体系属于吸附控制的不可逆过程,COOH/ITO对吡柔比星的电化学还原过程产生较大的促进作用。 展开更多
关键词 吡柔比星 羧基离子注入 氧化铟锡 循环伏安 电化学
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