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离子注入剥离铌酸锂单晶薄膜的Ar^+刻蚀研究
被引量:
1
1
作者
方远苹
罗文博
+4 位作者
郝昕
白晓园
曾慧中
帅垚
张万里
《压电与声光》
CAS
北大核心
2020年第5期674-677,共4页
通过高能离子注入剥离制备的铌酸锂(LNO)单晶薄膜具备优良的电光、声光等性能,在射频器件、光波导等领域需求迫切。高能离子注入使LNO单晶薄膜表面存在损伤层,导致薄膜质量和器件性能的衰减。该文提出了Ar^+刻蚀去除LNO单晶薄膜损伤层...
通过高能离子注入剥离制备的铌酸锂(LNO)单晶薄膜具备优良的电光、声光等性能,在射频器件、光波导等领域需求迫切。高能离子注入使LNO单晶薄膜表面存在损伤层,导致薄膜质量和器件性能的衰减。该文提出了Ar^+刻蚀去除LNO单晶薄膜损伤层的方法,基于高能离子注入仿真,采用扫描电子显微镜、原子力显微镜分析了刻蚀参数对刻蚀速率、表面形貌的影响,并确定了LNO薄膜损伤层的刻蚀工艺参数。X线衍射分析表明,通过Ar^+刻蚀将LNO薄膜摇摆曲线半高宽减至接近注入前LNO单晶材料,压电力显微镜测试表明去除损伤层后的LNO单晶薄膜具备更一致的压电响应。
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关键词
铌酸锂(LNO)单晶薄膜
表面损伤层
Ar^+刻蚀
晶体质量
压电性能
下载PDF
职称材料
题名
离子注入剥离铌酸锂单晶薄膜的Ar^+刻蚀研究
被引量:
1
1
作者
方远苹
罗文博
郝昕
白晓园
曾慧中
帅垚
张万里
机构
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
成都优蕊光电科技有限公司
出处
《压电与声光》
CAS
北大核心
2020年第5期674-677,共4页
基金
四川省科技支撑基金资助项目(2018JY0127)。
文摘
通过高能离子注入剥离制备的铌酸锂(LNO)单晶薄膜具备优良的电光、声光等性能,在射频器件、光波导等领域需求迫切。高能离子注入使LNO单晶薄膜表面存在损伤层,导致薄膜质量和器件性能的衰减。该文提出了Ar^+刻蚀去除LNO单晶薄膜损伤层的方法,基于高能离子注入仿真,采用扫描电子显微镜、原子力显微镜分析了刻蚀参数对刻蚀速率、表面形貌的影响,并确定了LNO薄膜损伤层的刻蚀工艺参数。X线衍射分析表明,通过Ar^+刻蚀将LNO薄膜摇摆曲线半高宽减至接近注入前LNO单晶材料,压电力显微镜测试表明去除损伤层后的LNO单晶薄膜具备更一致的压电响应。
关键词
铌酸锂(LNO)单晶薄膜
表面损伤层
Ar^+刻蚀
晶体质量
压电性能
Keywords
LNO single crystal film
surface damage layer
Ar^+etching
crystal quality
piezoelectric performance
分类号
TN384 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
离子注入剥离铌酸锂单晶薄膜的Ar^+刻蚀研究
方远苹
罗文博
郝昕
白晓园
曾慧中
帅垚
张万里
《压电与声光》
CAS
北大核心
2020
1
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