溅射功率对微纳米Nb膜性能影响机制研究

为了改善普通钛合金TC4的表面生物医学性能,采用磁控溅射的方法在TC4表面制备微纳米Nb薄膜,研究不同功率(46,98.5,144,205.8 W)对制备微纳米化Nb膜的沉积速率、晶体结构、晶粒尺寸、应力、表面形貌及表面硬度的影响规律。结果表明,在气压为0.5 Pa、温度室温的情况下,溅射功率200 W时,制备的Nb薄膜具有晶粒尺寸适当、应力小、表面粗糙度低和较高硬度等综合性能较好的特点。

一种TiAlN多层膜制备新方法

采用自行设计制造的离子束联合溅射系统,将磁控溅射与离子注入技术相结合,在镁合金表面形成多层TiAlN强化膜.用金相显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、摩擦磨损仪等手段,研究了多层膜的表面形貌、结构和性能.结果表明,TiAlN膜膜表面光滑致密、孔隙率大大降低,粗糙度为42.28nm,由TiAlN强化相组成;成膜后耐磨性有所提高,但摩擦系数变化不大,未达到减摩作用.