无掩模选择性制备硅纳米线阵列及其光致发光

基于金属辅助硅化学刻蚀发展了一种无掩模选择性区域制备硅纳米线阵列的方法,并利用该方法成功制备了图形化的硅纳米线阵列.扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)分析表明,所制备的硅纳米线阵列是高质量的多孔微纳米结构,并利用拉曼光谱仪研究了室温下硅纳米线阵列的光致发光特性.结果表明,硅纳米线阵列可实现有效的光发射,发光波峰为663 nm.该方法工艺简单、有效,可潜在地应用于构筑硅基光电集成器件.

谈谈企业整体优化

目前，工业企业在面临原料短缺。市场疲软、资金紧张的经济环境中，大多呈现经济效益下降的趋势，有的甚至出现了严重的亏损。但也有那么一些企业，经济效益稳定上升。面对同样的经济环境，企业与企业之间为什么会形成这么明显的反差呢？据笔者观念分析，效益差的企业大多内功较差，而经济效益好的企业，整体优化较好，所以，在目前的经济形势下，认真研究企业内部的整体优化，加强企业内部管理，有着十分重要的现实意义。

开封市鼓楼区小学生蠕形螨感染情况调查

目前,有关成年人及大学生的蠕形螨感染情况有所报导。但就学龄儿童的感染情况未见报道。为了解蠕形螨在小学生中的感染情况,以便提出合理的防治措施。我们于1990年3—4月份对鼓楼区十所小学4639名7—12岁学生进行了感染情况调查。对象与方法 1.对象选择鼓楼区有代表性的十所小学学生进行普查,最后选择其中年龄在7—12岁之间的有效标本作统计,共4639名,其中男生2329名,女生2310名。