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基板二次预对准定心定向数学模型的研究
1
作者
景帅真
范红
+2 位作者
黄栋梁
张南峰
赵秋锦
《电子设计工程》
2013年第15期98-101,共4页
高精度的预对准分系统是设计现代光刻机需要解决的核心问题之一。在光刻机上载基板的工作过程中,需要进行多次基板对准,主要有:基板预对准、基板二次预对准、基板对准。为了建立基板二次预对准定心定向数学模型,基于基板二次预对准的工...
高精度的预对准分系统是设计现代光刻机需要解决的核心问题之一。在光刻机上载基板的工作过程中,需要进行多次基板对准,主要有:基板预对准、基板二次预对准、基板对准。为了建立基板二次预对准定心定向数学模型,基于基板二次预对准的工作原理,提出了计算定心定向的算法,对该算法进行了仿真分析,并根据输入输出建立了定心定向数学模型。该数学模型的建立,为提高二次预对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。
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关键词
光刻机
二次对准
定心定向
硅片
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职称材料
题名
基板二次预对准定心定向数学模型的研究
1
作者
景帅真
范红
黄栋梁
张南峰
赵秋锦
机构
东华大学信息科学与技术学院
上海微电子装备有限公司
出处
《电子设计工程》
2013年第15期98-101,共4页
文摘
高精度的预对准分系统是设计现代光刻机需要解决的核心问题之一。在光刻机上载基板的工作过程中,需要进行多次基板对准,主要有:基板预对准、基板二次预对准、基板对准。为了建立基板二次预对准定心定向数学模型,基于基板二次预对准的工作原理,提出了计算定心定向的算法,对该算法进行了仿真分析,并根据输入输出建立了定心定向数学模型。该数学模型的建立,为提高二次预对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。
关键词
光刻机
二次对准
定心定向
硅片
Keywords
lithography machine
wafer
secondary pre-alignment
eccentricity and orientation
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
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操作
1
基板二次预对准定心定向数学模型的研究
景帅真
范红
黄栋梁
张南峰
赵秋锦
《电子设计工程》
2013
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