磁控共溅射制备AGZO薄膜及性能分析

采用两靶共溅射的方法,分别采用GZO靶材及Al靶材,在不同的Al靶材溅射时间下制备AGZO薄膜。测试分析了不同Al靶溅射时间下,AGZO薄膜晶体结构、成分及相关性能的变化。其中当铝靶溅射时间为5分钟时制得的薄膜具有最优性能。