用β二酮类金属有机前驱体原子层沉积金属薄膜

在现代纳米科技中,三维共形沉积金属薄膜或金属纳米结构,在微电子、光电子、磁存储和催化等多个领域有着广泛的应用前景。本文以β二酮类金属有机前驱体(乙酰丙酮、氟化的乙酰丙酮),采用原子层沉积(ALD)的方法在硅片和石英玻璃上沉积贵金属(Ir、Pd、Pt)和过渡金属(Cu)。采取X射线衍射(XRD)、能谱测试(EDS)、X射线电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)等手段对金属薄膜的结构、形貌进行研究。结果表明,沉积在衬底上的Ir、Pt均为金属单质而Cu和Pd中含有一定量的氧化物和硅化物,可能由于钯粒子的扩散形成硅化物和铜暴露空气中被氧化的原因。通过对这类β二酮类金属有机前驱体沉积金属薄膜过程的研究,可以发现其中的共通性,并将其拓展到其他金属薄膜的沉积。