渔港工程(防波堤)业绩标准属性探讨

《中华人民共和国建筑法》第十三条规定,已完成的建筑工程业绩是取得相应等级证书的资质条件之一,取得相应等级的资质证书后,方可在其资质等级许可范围内从事建筑活动。经查,笔者发现目前没有统一的建筑工程业绩划分标准,但建设工程项目招投标时一般会要求投标人提供类似工程业绩证明其有相关建设经验。然而,是否属于类似工程业绩需要有一个判断标准,为此,划分建筑工程业绩标准显得尤为必要。

“在建合同工程”的认定和适用

在建合同工程通常指正在进行建设中的工程项目,其施工进度还未完成或未通过最终验收正在履约的工程。以下将通过案例分析招标文件中“在建合同工程”的认定原则,同时对“在建合同工程”的起始点、中标通知书的法律效力进行探讨。

细微偏差不影响投标文件的有效性

如果投标人提供的材料与招标文件要求的形式不一致,但实质内容相一致时,评标委员会应当认定实质重于形式,且分清是细微偏差还是重大偏差,不可轻易否决投标。案例经过某项目在招标文件的“投标人须知”中设置了资格审查条件(信誉最低要求)。

“评定分离”试点问题商榷

“要想意向人中标,选择评定分离就好,”这是笔者亲耳所闻的一句话。招标结果应当有不确定性,正因为结果的不确定性,项目才有竞争,才能确保公平。然而,一些地区试行“评定分离”的实际做法,增加了结果的相对确定性,带来了较大的不可控的廉政风险,值得深思。

交变力磁力显微镜:在三维空间同时观测静态和动态磁畴

传统磁力显微镜(MFM)的磁畴扫描是利用激光束反射探测探针和样品之间的静磁力.因此,对于MFM,直接探测样品在交流磁场作用下的动态磁力仍然是一个挑战.交变力磁力显微镜(A-MFM)使用Co-GdOx超顺磁探针可以实现在交流磁场(频率 ωm)作用下探测动态磁力.采集 ωm和2ωm信号能准确地表示出样品的静态磁场(外加交流磁场对样品磁化状态没有影响)和动态磁场(外加交流磁场改变了样品磁化状态)的区域.通过修改传统的tapping-lift扫描模式为一次tapping多次lift的扫描模式,A-MFM实现了三维空间的磁场探测.本文证明了样品的静态和动态磁场随探针和样品之间距离z的变化,满足Hz(z)=Hz(0)·exp(–kz).A-MFM可以研究材料的动态磁化过程,也可以评价材料的磁均匀性(微观结构均匀性).

民生新闻在新形势下的发展与创新

在"互联网+"下的商业大潮中,各类民生电视节目也趋向商业化,特别是新媒体竞争的影响下,个别电视民生新闻栏目甚至为了争取更多的商业价值和利益,而忽略了原本节目应有的专业性和新闻性。民生电视新闻在这样的背景下,应该何去何从,如何得到发展和创新,本文就此展开论述。

着力推动横店通用机场改造升级

横店是全球最大的影视拍摄基地,现拥有影视企业984家,每年旅游人次近2000万,未来将达到5000万的旅游人次,机场发展前景广阔。东阳横店通用机场是《浙江省通用机场发展规划》（浙发改交通[2015]650号）规划的7个一类通用机场之一,位于东阳市横店镇,该工程被列入浙江省重点建设项目。一期工程建有航站楼、入驻企业办公楼以及中心变电站、给水站、污水处理等配套设施,目前投资额达到近10亿元。

强磁场对不同厚度Fe80Ni20薄膜的微观结构及磁性能的影响

有无6 T强磁场条件下利用分子束气相沉积方法制备了不同厚度的Fe80Ni20薄膜.研究发现,薄膜的面内矫顽力随厚度增加而降低且符合Neel理论;矩形比随厚度的增加先快速增大后缓慢降低;6 T磁场抑制了颗粒团聚及异常长大,并降低了薄膜表面的粗糙度,这使薄膜的矫顽力要小于无磁场作用的薄膜,矩形比大于无磁场作用的薄膜;而且薄膜在垂直于基片表面的6 T磁场作用下由0 T下的面内磁各向异性转变为磁各向同性.

初始温度和冷却速率对金属团簇凝固行为的影响

用分子动力学结合嵌入原子势研究了含有531个原子的Co531,Cu531和Ni531团簇从不同初始温度以不同冷却速率凝固到200K时的凝固行为.结果表明初始温度和冷却速率对团簇的凝固点有很大影响.初始温度越高,冷却速率越小,团簇的凝固点越高.凝固条件的改变会对三种团簇的凝固结构产生不同的影响.Cu531和Ni531团簇尽管在不同条件下的凝固点不同,但凝固结构都是二十面体.而Co531从高温以低冷却速率凝固时会形成与其块体相同的hcp结构,其他条件下的凝固成二十面体结构.

强磁场对不同厚度Fe-Ni纳米多晶薄膜的生长过程及磁性能的影响

有无6 T强磁场条件下,利用分子束气相沉积方法制备了21 nm和235 nm厚的Fe-Ni纳米多晶薄膜.研究发现,0 T时,21 nm厚的薄膜是晶粒堆叠而成,晶粒尺寸为6—7 nm;6 T时,21 nm厚的薄膜首先在基片表面形成了晶粒相互连接的5 nm平坦层,晶粒沿基片表面拉长,随后以6—7 nm尺寸的晶粒堆叠而成;0 T时,235 nm厚度的薄膜生长初期平均晶粒尺寸为3.6 nm,生长中期平均晶粒尺寸为5.6 nm,生长末期薄膜近似柱状方式生长,晶粒沿生长方向拉长;6 T时,235 nm厚度的薄膜在基片表面也形成了晶粒相互连接的5 nm平坦层,晶粒沿基片表面拉长,随后以尺寸均匀的6.1 nm晶粒堆叠而成;而且,6 T强磁场使得不同厚度薄膜的面外与面内矫顽力都降低.