磁控溅射功率对WO_x薄膜结构和光催化活性的影响

采用射频磁控溅射法在非加热载玻片上制备WO_x薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、台阶仪、UV-Vis-NIR3600型紫外可见分光光度计和接触角计,研究不同溅射功率下薄膜的物相结构、表面形貌、元素价态、膜厚、光学性能、光催化和亲水性能。结果表明,随着溅射功率增加,薄膜的光学带隙逐渐减小,薄膜光催化活性与亲水性均提高。180 W溅射功率沉积的薄膜放置在亚甲基蓝溶液里,然后用紫外灯照射210 min,亚甲基蓝降解率达到97%; WO_x薄膜在紫外灯下照射120 min时,水接触角达到12. 2°,停止照射之后放置在可见光下260 min,水接触角达到19. 1°。