黄瓜幼苗子叶在低温下的光抑制及其恢复

用PAM脉冲调制荧光仪测定叶绿素荧光的变化研究了黄瓜幼苗子叶在PFD为50和100μmolm-2s-1，温度为4、7、10、15℃下的光抑制及其恢复。结果表明，黄瓜幼苗子叶Fv／Fm随着温度的下降和PFD的增加而下降，并且增加等量的PFD在4℃下比在10℃下引起更大的Fv／Fm下降。在黑暗条件下光抑制有轻微恢复，但完士恢复必需光照，且恢复起始时的光照十分重要。DTT可部分抑制叶绿素荧光Fo和Fm的猝灭，且15℃下比在4℃下抑制效果更大。CAP能强烈地加剧光抑制并几乎完全抑制恢复，且10℃下比在4℃下对光抑制的加剧作用更大。冷锻炼提高了黄瓜幼苗抵抗低温先抑制的能力，而CAP对冷锻炼苗比未锻炼苗的低温光抑制具有更大的加剧作用。

选择性剪接在植物逆境相关基因表达调控中的作用

文章介绍了选择性剪接在信号转导分子、转录因子、剪接因子和抗逆功能蛋白等4个层面对与植物逆境胁迫相关基因表达调控的影响,以及植物逆境诱导的选择性剪接机制的研究进展。

光强对木本植物叶绿体中活性氧产生的调控作用

将亚热带自然林的乔木荷树、黧蒴和灌木九节、罗伞幼苗栽种于3种不同光强下分析叶片中的LOX、XOD、MAO活性和分离叶绿体中和活性氧O2-.、OH·和H2O2的产生速率差别的结果表明:全自然光下生长的叶片中LOX和XOD活性最高,降低光强则2个酶的活性下降。叶绿体中的3种活性氧的产生随光强变化的趋势与LOX及XOD活性变化相似。这反映高的LOX和XOD活性是高光强下叶片中出现较高活性氧水平的原因之一。供试灌木的LOX和XOD活性低于乔木,但其活性及活性氧形成速率对光强变化的敏感性高于乔木。

逆境诱导水稻谷胱甘肽合成酶基因的表达研究

用RACE方法获得了全长的水稻谷胱甘肽合成酶(GS)基因的cDNA,并命名为OsGS(GeneBankaccession No.:AY453405)。该cDNA全长1 892 bp,编码一个由540个氨基酸组成的多肽,预测其氨基端(N端)含有一段定位叶绿体的信号肽。比较水稻基因组定位结果表明OsGS基因位于水稻12号染色体短臂上,转录区全长6 321 bp,由12个外显子和11个内含子组成。通过RT-PCR对OsGS在水稻正常生长条件和逆境条件下的表达进行了研究。结果表明,在正常生长条件下,OsGS在水稻幼苗的根和叶以及抽穗期水稻的根中表达;但不在抽穗期水稻的叶、茎和幼穗中表达,这显示OsGS在水稻中的表达具有发育和组织特异性。利用抽穗期水稻的叶片为材料,经高温、干旱和重金属逆境处理后,OsGS在抽穗期叶片中的转录被诱导表达;而在盐、低温、伤害逆境下则不被诱导。在轻度和中度干旱胁迫4 h后OsGS基因可被诱导表达。外源ABA处理也能够提高OsGS的转录水平,这显示OsGS可能是依赖ABA信号途径的环境胁迫诱导基因。