高纯钨粉制备工艺研究

以高纯APT为主要对象进行了研究,针对适合于高纯钨溅射靶的高纯钨粉,通过酸沉淀法和两段式氢还原法工艺,获得高纯度的高纯钨粉。通过酸沉淀法将高纯APT制成WO_(3)粉末。再以WO_(3)为原料,采用两段式氢还原法制备高纯钨粉。将制得的高纯钨粉进行GDMS纯度分析,并与5N标准进行对比,得出大部分杂质元素成分小于5N标准,整体杂质质量分数小于0.0002%,说明所制备钨粉达到5N级高纯钨粉的纯度要求。

碳化钨粉制备工艺研究

通过对氢气和碳化过程的深入研究,提出了一种创新的制备高质量碳化钨粉的方法。值得注意的是,碳化钨粉材料的致密性不仅取决于其粒度等自身特性,还受到后续压制和烧结等工艺环节的调控。这些工艺的优化将直接影响到材料的强度、导电性、导热性等关键性能。为了实现半导体器件的高品质,必须对碳化钨粉的生产和加工过程进行一系列精细的优化和调控。

高压坯强度钨粉制备新工艺研究

随着经济的高速发展,用于生产钨制品的高压坯强度钨粉需求量在逐年增多。本文对一种生产高压坯强度钨粉的工艺方法进行了研究,该工艺方法流程为“APT-煅烧-前驱体粉末-氢还原-过筛-高压坯强度钨粉”。试验对前驱体粉末的性能参数进行了分析,并对其制备成的钨粉与常规钨粉在粒度分布、微观形貌以及制成压坯后的压坯强度等方面进行了分析和比较。试验结果表明:此工艺方法可适用于规模化生产高压坯强度钨粉,其整体工艺流程简洁,并且可以有效地避免氢气回收净化系统中产生氨大量富集的现象。