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低介电常数(lowk)介质在ULSI中的应用前景 被引量：21
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作者 阮刚 肖夏 朱兆 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第11期84-87,95,共5页
本文讨论了ULSI的发展对低介电常数 (low k)介质的需求 ,介绍了几种有实用价值的low k介质的研究和发展现况 ,最后评述了low
关键词 极大规模集成电路 低介电常数材料 无机介质
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