多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构

使用波长351nm的半导体泵浦全固态脉冲激光器作为光源,经过位相光栅分束,形成干涉光场,在硅表面直接刻蚀微结构,制作了周期为0.55μm,槽深可达55nm的一维微光栅和周期为1.25μm,刻蚀深度45nm的正交微光栅结构.给出了微光栅形貌结构的扫描电子显微镜和原子力显微镜的测量结果.正交微光栅的一级衍射效率在1.8%～6.3%之间.该研究是改变硅表面微结构,优化硅材料特性的一种新方法,并扩展了大功率激光刻蚀在表面微加工领域的应用.

眼底横向显微成像系统的研制及应用

介绍了一套基于MEMS薄膜变形镜的人眼眼底横向显微成像系统。采用37单元MEMS薄膜变形反射镜作为波前校正元件,127微透镜阵列哈特曼夏克(Hartmann-Shack)波前传感器测量波前误差,在用计算机控制薄膜变形镜实现波前误差校正后,开启成像照明光源,用CCD相机记录视网膜图像。模拟眼试验表明,系统能够有效进行像差测量、校正和眼底成像,像差校正后成像质量达到衍射极限。临床试用表明,除少部分眼内比较浑浊的病人外,整个检查过程大部分病人都能够安全、快捷、可靠地进行。

基于DMD微光刻的导光板模板的制作方法

提出了一种基于数字微反射镜(DMD)微光刻的导光模板的制作方法。导光板的网点单元图形由DMD输入,经过缩微光学成像系统缩微后,在光刻胶干板上逐单元网点曝光,再经过显影、微电铸得到导光板模板,在PC薄板材上用微纳米压印制成导光板,厚度仅为0.381 mm。采用自行研制的SVGwriting-DMD激光直写系统,图形的最小分辨率为2μm,DMD微光刻法无需掩膜版,可实现不同形状、大小、微结构的单元网点图形及网点的排布,便于大幅面的导光板模板的制作。