一种低使用成本的高精度曝光和测量技术

提出了一种使用小尺寸MASK(光罩)的高精度曝光技术,能够实现1.5μm分辨率,几乎可以忽略的MASK成本。同时以曝光控制技术为基础,提出了一种快速进行TP/OL/CD精确测量的技术,为降低国产设备的测量使用成本提供了研究方向,同时提高了国产屏的性价比,可大幅降低单点测量时间和测量成本。

光刻机物镜主动阻尼接口设计及测量系统布局

提出一种光刻机物镜主动阻尼接口方案及测量系统布局方案,采用有限元仿真方法评估了在工作台质心变化及动态冲击状态下物镜内部相对静变形及动态响应满足指标需求;结合测量系统布局设计了工作台水平向及垂直向补偿策略,实现了物镜至测量系统间的相对静变形及动态响应满足指标需求;采用机电联合仿真方法评估了物镜主动阻尼方案幅值衰减满足指标需求并通过现场实物开/闭环传函测试验证了仿真的准确性。