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硅中硼离子注入校准样品的研制
1
作者
刘德中
薛正镠
+2 位作者
许国桢
朱志敔
陆东元
《微细加工技术》
1991年第1期1-6,共6页
本文主要介绍了硅中硼离子注入校准样品的制备与研究。分别用三台SIMS仪器对样品进行了深度剖析与比对,并对用作校准目的的样品主要参数进行了定值。
关键词
离子注入
样品
硼
硅
SIMS
下载PDF
职称材料
题名
硅中硼离子注入校准样品的研制
1
作者
刘德中
薛正镠
许国桢
朱志敔
陆东元
机构
上海市测试技术研究所
出处
《微细加工技术》
1991年第1期1-6,共6页
文摘
本文主要介绍了硅中硼离子注入校准样品的制备与研究。分别用三台SIMS仪器对样品进行了深度剖析与比对,并对用作校准目的的样品主要参数进行了定值。
关键词
离子注入
样品
硼
硅
SIMS
Keywords
Ion implantation
Boron implantation into silicon
Sample calibration.
分类号
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
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发文年
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1
硅中硼离子注入校准样品的研制
刘德中
薛正镠
许国桢
朱志敔
陆东元
《微细加工技术》
1991
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