基于USB通信的SLED自动控温系统

在SLED的温度控制系统中,以计算机设定半导体激光器工作温度,通过USB实现PC机与目标板之间的通信,针对半导体制冷器(TEC)的驱动特性,设计了基于MSP430单片机脉宽调制(PWM)、比例积分微分算法(PID)的自动温度控制单元。系统以CY7C68013为USB通信模块;利用单片机片内的12bit的A/D转换器采集数据;PC端软件以VC++6.0为开发环境完成数据的输出。激光器温度控制精度在±0.02℃以内。

高瞻远瞩话档案 身体力行办实事——阳高县委、县政府领导重视档案工作二三事

阳高县委、县人大、县政府领导对档案工作关心备至,历来重视、支持、帮助解决档案工作中的各种具体问题。李洲县长批专款 1990年春,县档案局定制的标准档案盒接近用完,计划内经费又无力解决新进馆档案的包装问题。县长李洲听了汇报后,果断地说;为了发展档案事业,积累历史资料,为现时和今后工作服务。

脉冲激光溅射沉积光学增益薄膜实验研究

用脉冲激光沉积方法,以多靶交替溅射方式,在SiO2/Si基底上沉积镱铒共掺Al2O3光学薄膜,讨论了脉冲激光能量对薄膜沉积速率、表面形貌、光致发光强度的影响。在脉冲激光能量较高条件下制备出的薄膜的光致发光性能较好,脉冲激光能量较低条件下制备出的薄膜的表面形貌较均匀。综合放大器增益系数对光致发光强度和光刻工艺对薄膜表面形貌的要求,薄膜应该在合适的激光能量下制备。脉冲激光溅射沉积方法与中频磁控溅射方法相比,在抑制上转换发光方面具有优越性。

脉冲激光溅射沉积镱铒共掺Al_2O_3薄膜工艺参数优化

分别以铝、铒、镱为靶材,采用脉冲激光沉积技术(PLD),在二氧化硅/硅基底上沉积镱、铒共掺的三氧化二铝薄膜。利用原子力显微镜(AFM)、单色仪等分析手段,研究了薄膜的表面形貌、光致发光强度(PL)等性质。优化了氧分压和靶间距两个重要工艺参数。光致发光强度提高14倍,半峰宽提高了70nm。