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晶界扩散Pr和Cu对烧结钕铁硼永磁体性能的影响
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作者 朱昌顺 刘先松 +2 位作者 阚绪材 刘友好 王磊 《磁性材料及器件》 CAS 2024年第3期27-33,共7页
利用磁控溅射镀膜技术,在烧结钕铁硼磁体表面分别沉积Pr、Cu及Pr_(75)Cu_(25)镀层,并对其进行晶界扩散热处理。分析了扩散前后磁体的磁性能、微观结构、温度稳定性和抗弯强度。与空白磁体相比,扩散磁体晶界富Nd相及其连续性明显增多、增... 利用磁控溅射镀膜技术,在烧结钕铁硼磁体表面分别沉积Pr、Cu及Pr_(75)Cu_(25)镀层,并对其进行晶界扩散热处理。分析了扩散前后磁体的磁性能、微观结构、温度稳定性和抗弯强度。与空白磁体相比,扩散磁体晶界富Nd相及其连续性明显增多、增强,隔离了主相晶粒,磁去耦作用较强,扩散Pr、Pr_(75)Cu_(25)磁体内禀矫顽力由12.86 kOe分别提升至14.69 kOe、15.78 kOe,扩散Cu磁体内禀矫顽力由13.38 kOe提升至14.83 kOe。在20~120℃范围内,扩散Pr、Cu、Pr_(75)Cu_(25)磁体的矫顽力温度系数|β|分别降低了0.034%/℃、0.021%/℃、0.089%/℃,磁通不可逆损失分别下降了20.96%、0.94%、27.71%,平均抗弯强度分别增高了55.89 MPa、149.00 MPa和130.21 MPa。 展开更多
关键词 烧结钕铁硼磁体 晶界扩散 矫顽力 温度稳定性
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