CMOS电路抗Latchup性能研究

本文研究了ＣＭＯＳ电路中的Ｌａｔｃｈｕｐ效应．通过实验研究了ＣＭＯＳ电路不同版图尺寸和多种抗Ｌａｔｃｈｕｐ技术对维持点参数（维持电流和维持电压）的影响，得出了Ｌａｔｃｈｕｐｆｒｅｅ结构．本文同时使用ＰＩＳＣＥＳ对Ｌａｔｃｈｕｐ效应进行了二维模拟．

扩磷多晶硅的反应离子刻蚀

提出了一种利用普通光刻机获得亚微米、深亚微米刻蚀掩蔽图形的方法：二氧化硅膜过腐蚀法。利用该方法形成的掩蔽图形实现了扩磷多晶硅的高度各向异性反应离子刻蚀，并对其刻蚀机理进行了分析。

CMOS输入电路抗ESD性能研究

对ＣＭＯＳ电路中的ＥＳＤ损伤进行了研究，建立了ＥＳＤ灵敏度分类的测试方法，并通过实验研究了“电阻、二极管、电弧隙”输入保护网络各参数对ＥＳＤ灵敏度的影响，提出了一种ＮＰＮ防ＥＳＤ结构，得到了ＥＳＤ失效阈值电压达２０００Ｖ以上的抗ＥＳＤ结构。

集成电路制造工艺多媒体教学系统的设计

介绍一个集成电路制造工艺多媒体计算机辅助教学（ＭＣＡＩ）系统的设计与开发。系统包括教学系统及教学管理系统。ＩＣ制造工艺原理课件包括各种工艺的工艺目的、工艺原理、工艺参数和质量检测等内容，采用多媒体技术展示工艺设备结构、工作原理，模拟设备运行。目前已基本完成了各子系统的开发和调试，进入总体的集成和调试阶段。计划在９９年下半年启用该系统开出课程。使用该多媒体教学系统，可望进一步提高教学质量。对系统开发所涉及的多媒体制作工具软件及其使用也作了简单介绍。