基于三维集成的红外焦平面阵列技术

随着像素单元越来越小、阵列规模越来越大、帧频越来越快,传统的IRFPA面临很大的集成技术发展瓶颈。基于三维集成的红外焦平面阵列(3D-IRFPA)通过堆叠芯片集成了A/D转换器、数字信号处理器、存储器等模块,可突破像元面积、阵列规模、帧频等瓶颈,实现探测器更强大的功能和更高的性能。本文介绍了3D-IRFPA技术的结构原理、优势、面临的挑战,以及最新技术进展。

碳化硅MOS器件氧化层界面附近碳存在形式的理论研究进展

由于材料自身的优异物理电学性质,宽带隙半导体碳化硅(SiC)高功率MOSFETs器件可以大幅度降低电力系统的能耗,成为电力电子器件领域的关注热点。然而SiC MOSFET器件中SiC/SiO2的界面态密度比Si/SiO2界面态密度高两个数量级左右,导致器件沟道迁移率较低,致使器件性能严重退化。碳元素的存在是过高界面态产生的关键因素,研究SiC MOSFET器件中SiC/SiO2界面附近碳的存在形式,可以更好的指导碳化硅氧化工艺,更好的发挥碳化硅器件优势。本文首先分析了SiC/SiO2高界面态的根本原因,接着结合国内外最新的理论研究进展,对碳元素的扩散及固定模型、氧化后碳元素的存在形态等模型建模及理论研究进行了综述,为改善SiC器件氧化工艺提供基础理论指导。