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450ke V锥束CT系统的散射校正研究 被引量:8
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作者 李双镭 张丽 +1 位作者 陈志强 高河伟 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期908-911,共4页
在450keV锥束工业CT成像系统中,对投影数据进行适当的散射校正是一步重要的数据校正。结合国内外散射校正方法研究的现状,对一种用散射校正板来进行散射校正方法的原理和实现进行了深入的研究。实验结果表明,这种校正方法能够对450KeV锥... 在450keV锥束工业CT成像系统中,对投影数据进行适当的散射校正是一步重要的数据校正。结合国内外散射校正方法研究的现状,对一种用散射校正板来进行散射校正方法的原理和实现进行了深入的研究。实验结果表明,这种校正方法能够对450KeV锥束CT成像系统进行有效地散射校正。 展开更多
关键词 散射校正 散射校正板 BEAM STOP ARRAY CT
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