光学薄膜制备用的多离子束电子束系统

本文介绍一种新型的光学薄膜制备用多离子束电子束系统。该系统既可采用聚焦离子束溅射沉积，也可采用传统的电子束蒸发沉积薄膜，并辅助以低能离子轰击，离子可以是惰性元素也可以是反应气体离子。系统的特征是：任何与真空相容的材料均可用作靶材，制备薄膜。系统采用一台１０ｃｍ直径宽束离子源作为辅助沉积；二台特殊设计的聚焦离子源用于溅射沉积。为了能对绝缘样品或在沉积绝缘薄膜时对离子束进行有效而无污染的中和，系统还配置了一台新型的宽束电子源。文中对装置的特点，各个离子源、电子源的性能及特性进行了较详细的描述。利用该系统已制备了如ＴｉＯｘ、ＺｒＯｘ和多层ＺｒＯ２／ＳｉＯ２等特殊的光学薄膜。