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高性能1mm SiC基AlGaN/GaN功率HEMT研制
被引量:
2
1
作者
罗卫军
陈晓娟
+5 位作者
李成瞻
刘新宇
和致经
魏珂
梁晓新
王晓亮
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第11期1981-1983,共3页
在6H-SiC衬底上,外延生长了AlGaN/GaN HEMT结构,设计并实现了高性能1mm AlGaN/GaN微波功率HEMT,外延材料利用金属有机物化学气相淀积技术生长.测试表明,该1mm栅宽器件栅长为0.8μm,输出电流密度达到1.16A/mm,跨导为241mS/mm,击穿电压>...
在6H-SiC衬底上,外延生长了AlGaN/GaN HEMT结构,设计并实现了高性能1mm AlGaN/GaN微波功率HEMT,外延材料利用金属有机物化学气相淀积技术生长.测试表明,该1mm栅宽器件栅长为0.8μm,输出电流密度达到1.16A/mm,跨导为241mS/mm,击穿电压>80V,特征频率达到20GHz,最大振荡频率为28GHz.5.4GHz连续波测试下功率增益为14.2dB,输出功率达4.1W,脉冲条件测试下功率增益为14.4dB,输出功率为5.2W,两端口阻抗特性显示了在微波应用中的良好潜力.
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关键词
ALGAN/GAN
高电子迁移率晶体管
微波功率
功率增益
下载PDF
职称材料
题名
高性能1mm SiC基AlGaN/GaN功率HEMT研制
被引量:
2
1
作者
罗卫军
陈晓娟
李成瞻
刘新宇
和致经
魏珂
梁晓新
王晓亮
机构
中国科学院半导体研究所
中国科学院微电子研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第11期1981-1983,共3页
基金
国家重点基础研究发展计划(批准号:2002CB311903
G20000683)
中国科学院重点创新(批准号:KGCX2-SW-107)资助项目~~
文摘
在6H-SiC衬底上,外延生长了AlGaN/GaN HEMT结构,设计并实现了高性能1mm AlGaN/GaN微波功率HEMT,外延材料利用金属有机物化学气相淀积技术生长.测试表明,该1mm栅宽器件栅长为0.8μm,输出电流密度达到1.16A/mm,跨导为241mS/mm,击穿电压>80V,特征频率达到20GHz,最大振荡频率为28GHz.5.4GHz连续波测试下功率增益为14.2dB,输出功率达4.1W,脉冲条件测试下功率增益为14.4dB,输出功率为5.2W,两端口阻抗特性显示了在微波应用中的良好潜力.
关键词
ALGAN/GAN
高电子迁移率晶体管
微波功率
功率增益
Keywords
AlGaN/GaN, HEMT
microwave power
power gain
分类号
TN325.3 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高性能1mm SiC基AlGaN/GaN功率HEMT研制
罗卫军
陈晓娟
李成瞻
刘新宇
和致经
魏珂
梁晓新
王晓亮
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
2
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职称材料
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