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25MHz高速抗辐照存储器的验证方法设计
被引量:
1
1
作者
邓玉良
罗春华
+1 位作者
李洛宇
刘云龙
《电子器件》
CAS
北大核心
2013年第6期765-768,共4页
介绍了一种高速抗辐照存储器。经过基准电流电路及电流比较器电路设计,使PROM(可编程只读存储器)能够达到25 MHz的工作频率。所采用的电流比较器读取时连续求值,不会产生SEU(单粒子翻转),实现了PROM高可靠要求。通过三模冗余及系统校验...
介绍了一种高速抗辐照存储器。经过基准电流电路及电流比较器电路设计,使PROM(可编程只读存储器)能够达到25 MHz的工作频率。所采用的电流比较器读取时连续求值,不会产生SEU(单粒子翻转),实现了PROM高可靠要求。通过三模冗余及系统校验的方法实现抗辐照SET(单粒子瞬态翻转)加固,并在PROM存储器中实现。PROM存储器经过读取时间测试及抗辐照试验,结果表明,高速抗辐照电流比较器的设计符合指标要求。
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关键词
电流比较器
抗辐照
PROM
单粒子翻转
下载PDF
职称材料
0.18μm SOI NMOS单粒子效应中电荷累积机理的仿真研究
2
作者
邱恒功
李洛宇
+1 位作者
裴国旭
杜明
《科学技术与工程》
北大核心
2013年第21期6200-6202,6224,共4页
为研究0.18μm SOI工艺集成电路单粒子入射时电荷累积的机理,分别对电容和NMOS进行了单粒子入射的仿真研究。仿真结果表明,单粒子入射时,MOS电容中的电荷累积主要由位移电流引起;而在SOI NMOS中的电荷累积还有第二种机制,即当单粒子入...
为研究0.18μm SOI工艺集成电路单粒子入射时电荷累积的机理,分别对电容和NMOS进行了单粒子入射的仿真研究。仿真结果表明,单粒子入射时,MOS电容中的电荷累积主要由位移电流引起;而在SOI NMOS中的电荷累积还有第二种机制,即当单粒子入射位置在体漏结附近时,漏极和体接触产生的电荷累积。第二种机制会对SOI工艺集成电路的单粒子加固方法产生重要影响。
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关键词
SOI
NMOS
电荷积累
单粒子翻转
下载PDF
职称材料
题名
25MHz高速抗辐照存储器的验证方法设计
被引量:
1
1
作者
邓玉良
罗春华
李洛宇
刘云龙
机构
深圳市国微电子有限公司
出处
《电子器件》
CAS
北大核心
2013年第6期765-768,共4页
文摘
介绍了一种高速抗辐照存储器。经过基准电流电路及电流比较器电路设计,使PROM(可编程只读存储器)能够达到25 MHz的工作频率。所采用的电流比较器读取时连续求值,不会产生SEU(单粒子翻转),实现了PROM高可靠要求。通过三模冗余及系统校验的方法实现抗辐照SET(单粒子瞬态翻转)加固,并在PROM存储器中实现。PROM存储器经过读取时间测试及抗辐照试验,结果表明,高速抗辐照电流比较器的设计符合指标要求。
关键词
电流比较器
抗辐照
PROM
单粒子翻转
Keywords
current eomparator
radiation hardened
PROM
SEU
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
0.18μm SOI NMOS单粒子效应中电荷累积机理的仿真研究
2
作者
邱恒功
李洛宇
裴国旭
杜明
机构
深圳市国微电子有限公司
出处
《科学技术与工程》
北大核心
2013年第21期6200-6202,6224,共4页
文摘
为研究0.18μm SOI工艺集成电路单粒子入射时电荷累积的机理,分别对电容和NMOS进行了单粒子入射的仿真研究。仿真结果表明,单粒子入射时,MOS电容中的电荷累积主要由位移电流引起;而在SOI NMOS中的电荷累积还有第二种机制,即当单粒子入射位置在体漏结附近时,漏极和体接触产生的电荷累积。第二种机制会对SOI工艺集成电路的单粒子加固方法产生重要影响。
关键词
SOI
NMOS
电荷积累
单粒子翻转
Keywords
SOI NMOS charge collection SEU
分类号
O482.4 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
25MHz高速抗辐照存储器的验证方法设计
邓玉良
罗春华
李洛宇
刘云龙
《电子器件》
CAS
北大核心
2013
1
下载PDF
职称材料
2
0.18μm SOI NMOS单粒子效应中电荷累积机理的仿真研究
邱恒功
李洛宇
裴国旭
杜明
《科学技术与工程》
北大核心
2013
0
下载PDF
职称材料
已选择
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参考文献
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