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富In组分的InGaN合金组分及温度对声子模特性的影响
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作者 李烨操 胡海楠 +8 位作者 刘斌 张荣 滕龙 庄喆 谢自力 陈敦军 郑有炓 陈强 俞慧强 《中国科技论文》 CAS 北大核心 2013年第7期703-706,共4页
采用MOCVD方法在GaN/α-Al2O3(0001)衬底上生长获得了InGaN合金薄膜。X射线衍射(XRD)谱仅观察到In-GaN(0002)和GaN(0002)的衍射峰,表明InGaN与GaN均具有单晶C向的六方纤锌矿结构,利用衍射角度计算出InxGa1-xN薄膜的合金In组分x范围为0.3... 采用MOCVD方法在GaN/α-Al2O3(0001)衬底上生长获得了InGaN合金薄膜。X射线衍射(XRD)谱仅观察到In-GaN(0002)和GaN(0002)的衍射峰,表明InGaN与GaN均具有单晶C向的六方纤锌矿结构,利用衍射角度计算出InxGa1-xN薄膜的合金In组分x范围为0.34≤x≤1。室温下拉曼散射光谱测量发现,该系列InxGa1-xN合金的A1(LO)与E2(high)声子模峰位随着In组分x的增加均向低波速移动,并且峰位随组分的关系满足单模模式的变化规律。变温(93~673K)测量的拉曼散射光谱显示,InGaN的A1(LO)模峰位随着测量温度的升高向低波速非线性地偏移,该现象是由于晶格热膨胀和格点的非简谐振动的温度效应共同作用引起的。 展开更多
关键词 微电子学与固体电子学 INGAN 拉曼散射 声子模 温度
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Raman Scattering Study of In_(x)Ga_(1-x)N Alloys with Low Indium Compositions
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作者 滕龙 张荣 +7 位作者 谢自力 陶涛 张曌 李烨操 刘斌 陈鹏 韩平 郑有炓 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2012年第2期211-213,共3页
In_(x)Ga_(1-x)N alloys with low indium composition x in the range 0.13 ≤ x ≤ 0.23 are systematically studied mainly based on a Raman scattering technique.Scanning electron microscopy and x-ray diffraction results sh... In_(x)Ga_(1-x)N alloys with low indium composition x in the range 0.13 ≤ x ≤ 0.23 are systematically studied mainly based on a Raman scattering technique.Scanning electron microscopy and x-ray diffraction results show that our samples can be divided into two groups:pseudomorphic (0.13 ≤ x ≤ 0.16) and relaxed (0.18 ≤ x ≤ 0.23).The prominent enhancement of A1 longitudinal-optical (LO) mode is found with 325nm laser excitation.For pseudomorphic samples,the frequencies of A1 (LO) phonons agree well with the theoretical predictions,which verifies that the samples are fully strained.For relaxed In_(x)Ga_(1-x)N samples,a linear dependence of the A1 (LO) mode frequency is obtained:Ωo(x) =(740.8 ± 3.3) - (143.1 ± 16.0)x,which is the evidence of one-mode behavior in In_(x)Ga_(1-x)N ternary alloys.Residual strains in these partially relaxed samples are also evaluated. 展开更多
关键词 technique relaxed ALLOYS
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利用X射线衍射研究Mg掺杂的InN的快速退火特性 被引量:2
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作者 王健 谢自力 +11 位作者 张韵 滕龙 李烨操 曹先雷 丁煜 刘斌 修向前 陈鹏 韩平 施毅 张荣 郑有炓 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期170-173,共4页
研究了不同的快速退火(RTA)温度对Mg掺杂的InN材料的影响。根据马赛克微晶模型,利用X射线衍射(XRD)技术,对样品的对称面和非对称面做ω扫描,并且通过倒异空间图(RSM)扫描,拟合得到了刃位错与螺位错密度,并且根据在不同快速退火温度条件... 研究了不同的快速退火(RTA)温度对Mg掺杂的InN材料的影响。根据马赛克微晶模型,利用X射线衍射(XRD)技术,对样品的对称面和非对称面做ω扫描,并且通过倒异空间图(RSM)扫描,拟合得到了刃位错与螺位错密度,并且根据在不同快速退火温度条件下位错密度的比较,同时结合迁移率的测量结果,发现快速退火温度采用400℃能有效地提高晶体的质量。原因在于快速退火能有效地激活Mg原子活性,降低材料中的载流子浓度,同时快速退火采用的氮气气氛能补偿部分起施主作用的氮空位,降低材料中载流子浓度的同时也降低了缺陷。同时,(002)面的摇摆曲线半峰全宽(FWHM)也很好地验证了所得结果。 展开更多
关键词 薄膜 快速退火 X射线衍射 氮化铟 掺杂 位错
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纳米压印技术在LED器件制备中的应用 被引量:1
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作者 庄喆 刘斌 +6 位作者 张荣 李烨操 谢自力 陈鹏 赵红 修向前 郑有炓 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2013年第2期10-16,共7页
纳米压印技术(NIL)是一种机械制备纳米图形的微加工技术,它具有设备简单、易于操作、重复性好和成本低等优点。同时,它可以大面积制备高分辨率的纳米图形,使得大批量低成本地生产微纳器件成为可能。而固态照明工程目前是被全世界所关注... 纳米压印技术(NIL)是一种机械制备纳米图形的微加工技术,它具有设备简单、易于操作、重复性好和成本低等优点。同时,它可以大面积制备高分辨率的纳米图形,使得大批量低成本地生产微纳器件成为可能。而固态照明工程目前是被全世界所关注的重要领域,制备出高效III-V化合物半导体发光二极管(LED)来代替现有的传统照明工具已经掀起了照明技术的革命,以实现高质量、绿色的照明。重点介绍了纳米压印技术的发展和工艺过程,并详细论述纳米压印技术在无机和有机LED制备中的应用,实现纳米结构LED以及表面光子晶体结构,从而提高LED的发光效率。 展开更多
关键词 光学制造 纳米压印技术 发光二极管 纳米结构 外量子效率 光子晶体
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