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808nm大功率量子阱激光器无吸收腔面镀膜的研究 被引量:6
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作者 李秉臣 彭晔 廖显伯 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第8期698-701,共4页
用电子束反应蒸发法制备的 a Si∶ H 膜和 Al2 O3 膜组成的 a Si∶ H/ Al2 O3 膜系,解决了 a Si/ Al2 O3 膜系在 808nm 波长有较强光吸收问题,吸收系数从 2×103cm - 1 降低到... 用电子束反应蒸发法制备的 a Si∶ H 膜和 Al2 O3 膜组成的 a Si∶ H/ Al2 O3 膜系,解决了 a Si/ Al2 O3 膜系在 808nm 波长有较强光吸收问题,吸收系数从 2×103cm - 1 降低到可以忽略的程度.a Si∶ H 膜的光学带隙为 174e V 左右.应用到 808nm 大功率量子阱激光器腔面镀膜上。 展开更多
关键词 量子阱激光器 腔面镀膜 实验
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Pt-Ni/p-InP低阻欧姆接触的机理研究 被引量:1
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作者 李秉臣 王玉田 庄岩 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期397-400,共4页
本文利用X射线衍射和AES(俄歇)方法,深入地研究了RF磁控溅射淀积的Pt-Ni/p-InP(100)非合金膜系在热退火过程中Pt和Ni与衬底InP中的In和P形成稳定化合物的行为。
关键词 半导体器件 欧姆接触 磷化铟
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808nm大功率半导体量子阱激光器锁相列阵 被引量:3
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作者 肖建伟 杨国文 +7 位作者 徐俊英 徐遵图 张敬明 庄芳婕 李秉臣 毕可奎 郑婉华 陈良惠 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 1994年第1期9-12,共4页
在材料研究和器件特性分析的基础上,采用分子束外延方法(MBE),成功地研制出低阈值电流密度、高量子效率、折射率缓变分别限制异质结单量子阱结构(GRIN-SCH-SQW)大功率半导体激光器锁相列阵,最大线性输出功率为1... 在材料研究和器件特性分析的基础上,采用分子束外延方法(MBE),成功地研制出低阈值电流密度、高量子效率、折射率缓变分别限制异质结单量子阱结构(GRIN-SCH-SQW)大功率半导体激光器锁相列阵,最大线性输出功率为1.5W(室温,连续),激射波长808±4nm,光-电转换效率最高达62%,器件寿命考核(25℃,CW)超过1000小时无明显退化。 展开更多
关键词 量子阱激光器 锁相列阵
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蓝宝石基LED外延片背减薄与抛光工艺研究 被引量:9
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作者 李冰 郭霞 +3 位作者 刘莹 李秉臣 王东凤 沈光地 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第9期57-60,共4页
研究了蓝宝石基LED外延片背减薄过程中去除速率和表面粗糙度与研磨转速和研磨压力的关系,比较了不同的磨料颗粒度对去除速率和表面粗糙度的影响,并研究了抛光过程中表面粗糙度随时间的变化规律,为背减薄与抛光工艺的优化提供了依据。
关键词 蓝宝石 发光二极管 背减薄 研磨 抛光
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湖南零陵易家桥下侏罗统发现含高岭土矿层
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作者 李秉臣 《湖南地质》 1989年第2期83-84,共2页
零陵县易家桥煤矿区,有公路直达,湘桂铁路沿矿区南部通过,交通甚为方便。1951年徐道书曾到该区进行过踏勘,对粘土层采集少量测试样品,评价为耐火粘土。矿区为一北西向向斜构造,其南西翼为一近走向的断层所切断。区内出露侏罗系地层,矿... 零陵县易家桥煤矿区,有公路直达,湘桂铁路沿矿区南部通过,交通甚为方便。1951年徐道书曾到该区进行过踏勘,对粘土层采集少量测试样品,评价为耐火粘土。矿区为一北西向向斜构造,其南西翼为一近走向的断层所切断。区内出露侏罗系地层,矿层赋存于侏罗系下统下部之煤系地层中。含矿地层中共见四层粘土矿,其中以最下一层厚度大,质量好,为该区的主要含矿层。矿区的含矿岩系地层剖面自上而下为: 1.灰色砂岩与黑色页岩互层,含薄煤层及植物化石。厚55m 2.黄绿色含云母砂岩。厚5m 3.灰色粘土。厚1m 4.黄绿色砂岩夹薄层页岩。厚13m 5.煤层。厚0.8—1m 6.耐火粘土及黑色页岩。厚10m 7.灰黄色砂质页岩、含铁质结核。 展开更多
关键词 煤矿区 煤系地层 高岭土矿 侏罗纪
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银根紧缩也是提高企业经营管理水平的动力
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作者 李秉臣 吴明 《华北金融》 1986年第3期32-33,共2页
我商店是经营毛毡、皮货的国营专业商店,所经营的商品由于季节性较强,具有储备期长、销售期短的特点。在每年的储备期中,都要由银行贷款40~50万元。1985年由于国家银根紧缩,我商店在得不到较多的贷款的条件下,为了完成1985年销货350万元。
关键词 专业商店 资金周转 销售期 竞争能力 费用率 工资改革 劳效 加工点 市场信息 裘皮服装
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设备资产评估的实践
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作者 李秉臣 《中国设备管理》 1993年第3期6-7,共2页
为了有利于资产管理,增强企业后劲,使企业固定资产符合现行价值,我们对试点企业现有的固定资产价值进行了评估,做法如下。 根据国家国有资产管理局的文件规定,设备重估价值等于设备重置价值与折新率的乘积。所以,设备资产评估主要是确... 为了有利于资产管理,增强企业后劲,使企业固定资产符合现行价值,我们对试点企业现有的固定资产价值进行了评估,做法如下。 根据国家国有资产管理局的文件规定,设备重估价值等于设备重置价值与折新率的乘积。所以,设备资产评估主要是确定设备重置价值和折新率。 1.确定设备重置价值 设备的重置价值。 展开更多
关键词 固定资产 资产评估 企业
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Au-Pt-Ni/p-InP新的低欧姆接触电极 被引量:1
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作者 李秉臣 彭晔 李建中 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第20期2167-2170,共4页
用磁控溅射法淀积的非合金膜系Au_Pt_Ni/ p_InP( 1~ 2× 1 0 18cm-3 ) ,在 40 0℃ 30s的退火条件下 ,实现了比接触电阻低达 3× 1 0 -6Ω·cm2 的欧姆接触 .对不同温度 ( 30 0~ 5 0 0℃ )退火的Au_Pt_Ni/ p_InP欧姆接触... 用磁控溅射法淀积的非合金膜系Au_Pt_Ni/ p_InP( 1~ 2× 1 0 18cm-3 ) ,在 40 0℃ 30s的退火条件下 ,实现了比接触电阻低达 3× 1 0 -6Ω·cm2 的欧姆接触 .对不同温度 ( 30 0~ 5 0 0℃ )退火的Au_Pt_Ni/ p_InP欧姆接触所做的AES深度剖面分析揭示了Pt膜层阻挡Au的内扩散和InP外扩散的作用 . 展开更多
关键词 磁控溅射 比接触电阻 化合物半导体 非合金膜系
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2.5G DFB量子阱激光器p型欧姆接触电极的研究
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作者 李秉臣 彭晔 朱洪亮 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2000年第3期289-292,共4页
对2.5GDFB量子阱激光器p型低阻欧姆接触电极进行了研究,在退火温度400℃,退火时间30s进行快速热退火条件下,对AuPtTiInAsp+-InGaAs(掺Zn>1×1019cm-3)MQWnInP和AuPtTip+-InGaAs(掺Zn>1×101... 对2.5GDFB量子阱激光器p型低阻欧姆接触电极进行了研究,在退火温度400℃,退火时间30s进行快速热退火条件下,对AuPtTiInAsp+-InGaAs(掺Zn>1×1019cm-3)MQWnInP和AuPtTip+-InGaAs(掺Zn>1×1019cm-3)MQWnInP两种结构进行了p型欧姆接触试验研究,并对两者串联电阻进行了比较,其结果前者的串联电阻阻值为后者的1/4。 展开更多
关键词 能带工程 串联电阻 量子阱激光器 欧姆接触电极
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量子阱无序的窗口结构InGaAs/GaAs/AlGaAs量子阱激光器 被引量:3
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作者 徐遵图 徐俊英 +4 位作者 杨国文 张敬明 李秉臣 陈良惠 沈光地 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第12期1078-1082,共5页
对SiO2薄膜在快速热退火条件下引起的空位诱导InGaAs/GaAs应变量子阱无序和SrF2薄膜抑制其量子阱无序的方法进行了实验研究。并将这两种技术的结合(称为选择区域量子阱无序技术)应用于脊形波导InGaAs/Ga... 对SiO2薄膜在快速热退火条件下引起的空位诱导InGaAs/GaAs应变量子阱无序和SrF2薄膜抑制其量子阱无序的方法进行了实验研究。并将这两种技术的结合(称为选择区域量子阱无序技术)应用于脊形波导InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器,研制出具有无吸收镜面的窗口结构脊形波导量子阱激光器。该结构3μm条宽激光器的最大输出功率为340mW,和没有窗口的同样结构的量子阱激光器相比,最大输出功率提高了36%。在100mW输出功率下,发射光谱中心波长为978nm,光谱半宽为1.2nm。平行和垂直方向远场发散角分别为7. 展开更多
关键词 量子阱无序 窗口结构 应变量子阱 半导体激光器
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GaAs衬底生长的立方GaN晶片键合技术 被引量:3
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作者 孙元平 付羿 +11 位作者 渠波 王玉田 冯志宏 赵德刚 郑新和 段俐宏 李秉臣 张书明 杨辉 姜晓明 郑文莉 贾全杰 《中国科学(E辑)》 CSCD 北大核心 2002年第5期584-589,共6页
利用晶片键合技术通过多层金属膜成功地把立方相GaN LED结构键合到新衬底Si上,并且利用湿法腐蚀技术去掉了原GaAs衬底.SEM和PL观察表明,利用键合技术可以完整地把立方相GaN外延薄膜转移到新的衬底上而不改变外延层的物理和光学性质.XRD... 利用晶片键合技术通过多层金属膜成功地把立方相GaN LED结构键合到新衬底Si上,并且利用湿法腐蚀技术去掉了原GaAs衬底.SEM和PL观察表明,利用键合技术可以完整地把立方相GaN外延薄膜转移到新的衬底上而不改变外延层的物理和光学性质.XRD(X射线衍射)结果分析显示,键合后的样品中出现了新的合金和化合物:AuGa2,Ni4N,意味着用来作为黏附层和形成Ohm接触的Ni/Au膜与p-GaN形成了紧密的结合,保证了金属膜与GaN层的牢固度和界面的小接触电阻,成功地完成了键合,为下一步以GaAs吸收衬底生长的GaN基器件的研制打下了基础. 展开更多
关键词 GAN 晶片键合技术 立方相 衬底去除 砷化镓 氮化镓 半导体
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Wafer bonding technique used for the integration of cubic GaN/GaAs (001) with Si substrate 被引量:1
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作者 孙元平 付羿 +12 位作者 渠波 王玉田 冯志宏 沈小明 赵德刚 郑新和 段俐宏 李秉臣 张书明 杨辉 姜晓明 郑文莉 贾全杰 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2002年第3期255-260,共6页
We successfully used the metal mediated-water bonding technique in transferring the as-grown cubic GaN LED structure of Si substrate. The absorbing GaAs substrate was removed by using the chemical solutions of NH4OH:H... We successfully used the metal mediated-water bonding technique in transferring the as-grown cubic GaN LED structure of Si substrate. The absorbing GaAs substrate was removed by using the chemical solutions of NH4OH:H2O2=1:10. SEM and PL resuls show that water bonding technique could transfer the cubic GaN epilayers uniformly to Si without affecting the physical and optical properties of epilayers. XRD result shows that there appeared new peaks related to AgGa2 and Ni4N diffraction, indicating that the metals used as adhesive and protective layers interacted with the p-GaN layer during the long annealing process. It is just the reaction that ensures the reliability of the integration of GaN with metal and minor contact resistance on the interface. 展开更多
关键词 WAFER bonding cubic GaN/GaAs(001) Si-substrate.
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